一种用于晶圆薄膜沉积的炉管

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202422206446.1

申请日：

2024-09-09

公开(公告)号：

CN223033447U

公开(公告)日：

2025-06-27

发明(设计)人：

杨晓燕林晓涵李小乐娄培阳

申请人：

芯恩（青岛）集成电路有限公司

申请人地址：

266000 山东省青岛市黄岛区太白山路19号德国企业南区401

IPC主分类号：

C23C16/455

IPC分类号：

代理机构：

上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286

代理人：

吴浩

法律状态：

授权

国省代码：

山东省青岛市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-06-27	授权	授权

共 50 条

[1]

一种用于在晶圆表面沉积薄膜的炉管 [P].

耿晨晨 ;

林晓涵 ;

焦圣杰 ;

田志辉 ;

杨涛 .

中国专利 :CN220537910U ,2024-02-27

[2]

炉管用挡片套件、用于晶圆薄膜沉积的炉管及方法 [P].

郝胜男 ;

耿晨晨 ;

林晓涵 ;

焦圣杰 .

中国专利 :CN120099490A ,2025-06-06

[3]

一种晶圆薄膜沉积治具及晶圆薄膜沉积设备 [P].

白喜青 ;

颜吉祥 .

中国专利 :CN220999827U ,2024-05-24

[4]

晶舟组件及用于薄膜沉积的炉管装置 [P].

请求不公布姓名 ;

蒋新和 .

中国专利 :CN220856518U ,2024-04-26

[5]

晶圆薄膜沉积装置 [P].

张艳喆 ;

刘健 ;

李培培 ;

戚艳丽 .

中国专利 :CN114318305A ,2022-04-12

[6]

一种沉积炉管及沉积薄膜的方法 [P].

陈建国 ;

李天贺 .

中国专利 :CN103451624A ,2013-12-18

[7]

晶圆薄膜沉积制备系统 [P].

邵志锋 ;

李辉 .

中国专利 :CN223660200U ,2025-12-12

[8]

用于在晶圆沉积薄膜的设备 [P].

陈泳 .

中国专利 :CN110246788A ,2019-09-17

[9]

一种用于在晶圆上沉积薄膜的设备 [P].

梁小明 .

中国专利 :CN112921283A ,2021-06-08

[10]

一种炉管及薄膜沉积设备 [P].

肖建建 ;

杜记龙 .

中国专利 :CN220537912U ,2024-02-27

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