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具有气囊结构的上压印装置、真空纳米压印设备及方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202510728216.8
申请日
:
2025-06-03
公开(公告)号
:
CN120295055A
公开(公告)日
:
2025-07-11
发明(设计)人
:
张佳其
史晓华
申请人
:
苏州光舵微纳科技股份有限公司
申请人地址
:
215000 江苏省苏州市常熟市虞山高新区建业路2号常熟先进制造业科技园7C幢1、2楼
IPC主分类号
:
G03F7/00
IPC分类号
:
代理机构
:
苏州华博知识产权代理有限公司 32232
代理人
:
黄丽莉
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
江苏省 常州市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-07-29
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/00申请日:20250603
2025-07-11
公开
公开
共 50 条
[1]
下压印承载装置及具有该装置的真空纳米压印设备
[P].
张佳其
论文数:
0
引用数:
0
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机构:
苏州光越微纳科技有限公司
苏州光越微纳科技有限公司
张佳其
;
史晓华
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机构:
苏州光越微纳科技有限公司
苏州光越微纳科技有限公司
史晓华
.
中国专利
:CN118838114A
,2024-10-25
[2]
下压印承载装置及具有该装置的真空纳米压印设备
[P].
张佳其
论文数:
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0
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机构:
苏州光越微纳科技有限公司
苏州光越微纳科技有限公司
张佳其
;
史晓华
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0
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0
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机构:
苏州光越微纳科技有限公司
苏州光越微纳科技有限公司
史晓华
.
中国专利
:CN223038294U
,2025-06-27
[3]
纳米压印方法及纳米压印设备
[P].
陈程
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机构:
广东中图半导体科技股份有限公司
广东中图半导体科技股份有限公司
陈程
;
彭豪杰
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机构:
广东中图半导体科技股份有限公司
广东中图半导体科技股份有限公司
彭豪杰
;
何郴华
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0
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机构:
广东中图半导体科技股份有限公司
广东中图半导体科技股份有限公司
何郴华
;
顾睿
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机构:
广东中图半导体科技股份有限公司
广东中图半导体科技股份有限公司
顾睿
;
李海虹
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机构:
广东中图半导体科技股份有限公司
广东中图半导体科技股份有限公司
李海虹
;
初守庆
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机构:
广东中图半导体科技股份有限公司
广东中图半导体科技股份有限公司
初守庆
.
中国专利
:CN118605081A
,2024-09-06
[4]
纳米压印设备及纳米压印方法
[P].
李洋
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机构:
张江国家实验室
张江国家实验室
李洋
;
谈浩森
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机构:
张江国家实验室
张江国家实验室
谈浩森
;
陈宗镁
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机构:
张江国家实验室
张江国家实验室
陈宗镁
;
冯光磊
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机构:
张江国家实验室
张江国家实验室
冯光磊
.
中国专利
:CN121115398A
,2025-12-12
[5]
纳米压印设备及压印方法
[P].
冀然
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冀然
.
中国专利
:CN111913349A
,2020-11-10
[6]
纳米压印设备、纳米压印方法
[P].
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机构:
赵泽佳
;
刘楚军
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0
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0
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机构:
深圳大学
深圳大学
刘楚军
;
论文数:
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机构:
张国庆
;
论文数:
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机构:
徐斌
.
中国专利
:CN118192165A
,2024-06-14
[7]
纳米压印工艺监测方法、监测装置及纳米压印设备
[P].
臧法珩
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臧法珩
;
赵东峰
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赵东峰
;
李琨
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李琨
;
董立超
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董立超
;
杜凯凯
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杜凯凯
;
艾立夫
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艾立夫
;
王喆
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王喆
;
饶轶
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饶轶
.
中国专利
:CN111929986A
,2020-11-13
[8]
新型纳米压印设备及方法
[P].
黄爽爽
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机构:
苏州光舵微纳科技股份有限公司
苏州光舵微纳科技股份有限公司
黄爽爽
;
史晓华
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机构:
苏州光舵微纳科技股份有限公司
苏州光舵微纳科技股份有限公司
史晓华
.
中国专利
:CN120255271A
,2025-07-04
[9]
纳米压印设备及方法
[P].
刘晓成
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0
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机构:
苏州光舵微纳科技股份有限公司
苏州光舵微纳科技股份有限公司
刘晓成
;
史晓华
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0
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0
机构:
苏州光舵微纳科技股份有限公司
苏州光舵微纳科技股份有限公司
史晓华
.
中国专利
:CN117331278A
,2024-01-02
[10]
纳米压印设备及方法
[P].
巴巴克·海达里
论文数:
0
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0
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0
巴巴克·海达里
.
中国专利
:CN101271269A
,2008-09-24
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