下压印承载装置及具有该装置的真空纳米压印设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411255924.6

申请日：

2024-09-09

公开(公告)号：

CN118838114A

公开(公告)日：

2024-10-25

发明(设计)人：

张佳其史晓华

申请人：

苏州光越微纳科技有限公司

申请人地址：

215000 江苏省苏州市工业园区兴浦路200号19#101

IPC主分类号：

G03F7/00

IPC分类号：

代理机构：

苏州华博知识产权代理有限公司 32232

代理人：

黄丽莉

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

江苏省苏州市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-11-12	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/00申请日:20240909
2024-10-25	公开	公开

共 50 条

[1]

下压印承载装置及具有该装置的真空纳米压印设备 [P].

张佳其 ;

史晓华 .

中国专利 :CN223038294U ,2025-06-27

[2]

具有气囊结构的上压印装置、真空纳米压印设备及方法 [P].

张佳其 ;

史晓华 .

中国专利 :CN120295055A ,2025-07-11

[3]

晶圆吸附装置及具有该装置的真空纳米压印设备 [P].

张佳其 ;

史晓华 .

中国专利 :CN223038909U ,2025-06-27

[4]

晶圆吸附装置、具有该装置的真空纳米压印设备及方法 [P].

张佳其 ;

史晓华 .

中国专利 :CN118969678A ,2024-11-15

[5]

一种纳米压印夹持装置及纳米压印设备 [P].

张志圣 ;

娄建 ;

马炳乾 ;

其他发明人请求不公开姓名 .

中国专利 :CN214540376U ,2021-10-29

[6]

纳米压印工艺监测方法、监测装置及纳米压印设备 [P].

臧法珩 ;

赵东峰 ;

李琨 ;

董立超 ;

杜凯凯 ;

艾立夫 ;

王喆 ;

饶轶 .

中国专利 :CN111929986A ,2020-11-13

[7]

纳米压印方法及纳米压印设备 [P].

陈程 ;

彭豪杰 ;

何郴华 ;

顾睿 ;

李海虹 ;

初守庆 .

中国专利 :CN118605081A ,2024-09-06

[8]

纳米压印设备及纳米压印方法 [P].

李洋 ;

谈浩森 ;

陈宗镁 ;

冯光磊 .

中国专利 :CN121115398A ,2025-12-12

[9]

纳米压印设备及压印方法 [P].

冀然 .

中国专利 :CN111913349A ,2020-11-10

[10]

纳米压印工艺监测装置、方法和纳米压印设备 [P].

臧法珩 ;

赵东峰 ;

李琨 ;

董立超 ;

杜凯凯 ;

艾立夫 ;

王喆 ;

饶轶 .

中国专利 :CN111929987A ,2020-11-13

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