一种面向电离层总电子含量的多设备系统误差校正方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202411806030.1
申请日
2024-12-10
公开(公告)号
CN119493139B
公开(公告)日
2025-07-29
发明(设计)人
李旺 孟祥洲 张克非 赵东升 朱大明 王明果 左小清
申请人
昆明理工大学
申请人地址
650500 云南省昆明市呈贡区景明南路727号
IPC主分类号
G01S19/41
IPC分类号
代理机构
北京盛广信合知识产权代理有限公司 16117
代理人
杜旭东
法律状态
公开
国省代码
云南省 昆明市
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共 50 条
[1]
一种面向电离层总电子含量的多设备系统误差校正方法 [P]. 
李旺 ;
孟祥洲 ;
张克非 ;
赵东升 ;
朱大明 ;
王明果 ;
左小清 .
中国专利 :CN119493139A ,2025-02-21
[2]
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[4]
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[5]
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[6]
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[9]
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[10]
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