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用于半导体器件制备的清洗处理方法、半导体器件的制备方法及半导体器件
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202510499130.2
申请日：
2025-04-21
公开(公告)号：
CN120581425A
公开(公告)日：
2025-09-02
发明(设计)人：
王甜
乔夫龙
崔凯
赵刘明
张适杰
申请人：
昕原半导体（上海）有限公司
昕原半导体（杭州）有限公司
昕原半导体（深圳）有限公司
申请人地址：
201315 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区临港新片区鸿音路1211号13幢304室
IPC主分类号：
H01L21/02
IPC分类号：
代理机构：
北京景闻知识产权代理有限公司 11742
代理人：
李芳
法律状态：
公开
国省代码：
广东省
深圳市
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-09-02 | 公开 | 公开 |
| 2025-09-19 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/02申请日:20250421 |