一种制备高电阻率碳化硅材料的方法及碳化硅材料

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202511256014.4
申请日
2025-09-04
公开(公告)号
CN120738623A
公开(公告)日
2025-10-03
发明(设计)人
刘赋灵 余盛杰 廖家豪
申请人
湖南德智新材料股份有限公司
申请人地址
412000 湖南省株洲市天元区金马路156号湖南德智半导体产业园1号厂房
IPC主分类号
C23C16/32
IPC分类号
H01L21/02 C23C16/455 C23C16/56 C23C16/01
代理机构
北京布瑞知识产权代理有限公司 11505
代理人
周坤
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[21]
一种高纯高电阻率碳化硅制件及其成型工艺 [P]. 
李靖晗 ;
张慧 ;
王力 ;
李华民 ;
包根平 .
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[22]
一种电阻率均匀的碳化硅膜及其制备方法 [P]. 
崔海珍 ;
吴涛 .
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[23]
新型碳化硅材料 [P]. 
卜沈宝 .
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[24]
一种电阻率均匀的碳化硅膜及其制备方法 [P]. 
崔海珍 ;
吴涛 .
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[25]
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李伟 ;
张舸 ;
崔聪聪 ;
包建勋 ;
郭聪慧 .
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[26]
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黄政仁 ;
梁汉琴 ;
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[27]
一种高电阻率碳化硅陶瓷及其制备方法 [P]. 
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[28]
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C·布斯克特 .
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[29]
碳化硅缓冲层电阻率的测试方法 [P]. 
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杨龙 ;
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[30]
碳化硅纤维增强碳化硅复合材料制备方法 [P]. 
周新贵 ;
张长瑞 ;
王军 ;
张洪刚 ;
李效东 ;
刘荣军 ;
曹英斌 ;
于海蛟 .
中国专利 :CN1803715A ,2006-07-19