一种半导体抛光用白垫及其生产工艺

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202311005669.5
申请日
2023-08-10
公开(公告)号
CN117020933B
公开(公告)日
2025-10-31
发明(设计)人
李加海 杨惠明 李元祥
申请人
安徽禾臣新材料有限公司
申请人地址
243000 安徽省马鞍山市和县经济开发区姥下河东路标准化厂房1号厂房
IPC主分类号
B24B37/11
IPC分类号
B24D3/34 B24D18/00
代理机构
合肥正则元起专利代理事务所(普通合伙) 34160
代理人
蒋轶群
法律状态
授权
国省代码
安徽省 安庆市
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共 50 条
[1]
一种大尺寸衬底抛光用白垫及其生产工艺 [P]. 
李加海 ;
杨慧明 ;
李元祥 .
中国专利 :CN114918823A ,2022-08-19
[2]
一种用于光学元件抛光用高弹性白垫及其生产工艺 [P]. 
李加海 ;
杨惠明 ;
李元祥 .
中国专利 :CN116984990B ,2025-09-02
[3]
半导体衬底及其生产工艺 [P]. 
坂口清文 .
中国专利 :CN1314701A ,2001-09-26
[4]
一种显示屏抛光用高拉伸性白垫及其生产工艺 [P]. 
李加海 ;
杨惠明 ;
李元祥 .
中国专利 :CN116787345B ,2025-07-15
[5]
一种半导体抛光用耐磨型白垫 [P]. 
李加海 ;
杨惠明 ;
孙传东 .
中国专利 :CN220279299U ,2024-01-02
[6]
用于半导体硅晶材料单面抛光的无蜡垫及其生产工艺 [P]. 
李加海 ;
杨惠明 ;
李元祥 .
中国专利 :CN117067123B ,2025-09-30
[7]
一种硅晶片抛光用多孔吸水CMP抛光垫及其生产工艺 [P]. 
李加海 ;
杨惠明 ;
孙传东 .
中国专利 :CN118682657A ,2024-09-24
[8]
半导体器件及其生产工艺 [P]. 
吉田彰 .
中国专利 :CN1210763C ,2003-07-02
[9]
半导体器件及其生产工艺 [P]. 
秋山雪治 ;
柴本正训 ;
下石智明 ;
有田顺一 .
中国专利 :CN1289143A ,2001-03-28
[10]
一种高移除率的光学元件抛光白垫及其生产工艺 [P]. 
李加海 ;
杨惠明 ;
孙传东 .
中国专利 :CN118528122B ,2025-10-17