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应用于半导体制造过程中的数据展示方法及装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202411102079.9
申请日
:
2024-08-12
公开(公告)号
:
CN120804166A
公开(公告)日
:
2025-10-17
发明(设计)人
:
王俊博
黄俊林
曹磊
邢雪阳
申请人
:
中电九天智能科技有限公司
申请人地址
:
610200 四川省成都市双流区双江路二段299号玖天大厦1#楼10楼
IPC主分类号
:
G06F16/2457
IPC分类号
:
G06F16/248
G06F16/242
G06F8/34
G06F40/18
代理机构
:
北京励诚知识产权代理有限公司 11647
代理人
:
刘雅婷
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
四川省 成都市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-11-04
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):G06F 16/2457申请日:20240812
2025-10-17
公开
公开
共 50 条
[1]
半导体制造过程中的决定方法
[P].
A·胡包克斯
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
A·胡包克斯
;
J·F·M·贝克尔斯
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机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
J·F·M·贝克尔斯
;
D·J·D·戴维斯
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机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
D·J·D·戴维斯
;
J·G·C·昆尼
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机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
J·G·C·昆尼
;
W·R·彭格斯
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机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
W·R·彭格斯
;
A·R·戴韦尔
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机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
A·R·戴韦尔
;
李忠勳
论文数:
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机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
李忠勳
;
G·齐萝扬尼斯
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机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
G·齐萝扬尼斯
;
H·C·A·博格
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机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
H·C·A·博格
;
F·E·德荣格
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机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
F·E·德荣格
;
J·M·冈萨雷斯韦斯卡
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机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
J·M·冈萨雷斯韦斯卡
;
A·V·霍洛德
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机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
A·V·霍洛德
;
M·皮萨连科
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机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
M·皮萨连科
.
:CN113366390B
,2024-02-20
[2]
半导体制造过程中的决定方法
[P].
A·胡包克斯
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A·胡包克斯
;
J·F·M·贝克尔斯
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J·F·M·贝克尔斯
;
D·J·D·戴维斯
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D·J·D·戴维斯
;
J·G·C·昆尼
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J·G·C·昆尼
;
W·R·彭格斯
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W·R·彭格斯
;
A·R·戴韦尔
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A·R·戴韦尔
;
李忠勳
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李忠勳
;
G·齐萝扬尼斯
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G·齐萝扬尼斯
;
H·C·A·博格
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H·C·A·博格
;
F·E·德荣格
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F·E·德荣格
;
J·M·冈萨雷斯韦斯卡
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J·M·冈萨雷斯韦斯卡
;
A·V·霍洛德
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A·V·霍洛德
;
M·皮萨连科
论文数:
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M·皮萨连科
.
中国专利
:CN113366390A
,2021-09-07
[3]
应用于半导体制造的人机交互方法及装置
[P].
唐乔阳
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机构:
中电九天智能科技有限公司
中电九天智能科技有限公司
唐乔阳
;
黄俊林
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机构:
中电九天智能科技有限公司
中电九天智能科技有限公司
黄俊林
;
邢雪阳
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机构:
中电九天智能科技有限公司
中电九天智能科技有限公司
邢雪阳
;
曹磊
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机构:
中电九天智能科技有限公司
中电九天智能科技有限公司
曹磊
.
中国专利
:CN120805935A
,2025-10-17
[4]
应用于半导体制造过程中的晶圆的定位系统、方法和装置
[P].
汪海东
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机构:
鸿舸半导体设备(上海)有限公司
鸿舸半导体设备(上海)有限公司
汪海东
.
中国专利
:CN119069408A
,2024-12-03
[5]
应用于半导体制造过程中的晶圆的定位系统、方法和装置
[P].
汪海东
论文数:
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机构:
鸿舸半导体设备(上海)有限公司
鸿舸半导体设备(上海)有限公司
汪海东
.
中国专利
:CN119069408B
,2025-04-01
[6]
在半导体制造过程中应用沉积模式的方法
[P].
M·皮萨连科
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M·皮萨连科
;
M·范德斯卡
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M·范德斯卡
;
张怀辰
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张怀辰
;
玛丽亚-克莱尔·范拉尔
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玛丽亚-克莱尔·范拉尔
.
中国专利
:CN114026500A
,2022-02-08
[7]
在半导体制造过程中应用沉积模式的方法
[P].
M·皮萨连科
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机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
M·皮萨连科
;
M·范德斯卡
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机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
M·范德斯卡
;
张怀辰
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机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
张怀辰
;
玛丽亚-克莱尔·范拉尔
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机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
玛丽亚-克莱尔·范拉尔
.
:CN114026500B
,2025-01-03
[8]
半导体制造过程中的故障监测系统及方法
[P].
黎焕诚
论文数:
0
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黎焕诚
.
中国专利
:CN113539879A
,2021-10-22
[9]
应用于半导体制造的工艺流程图生成方法及装置
[P].
王永良
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机构:
中电九天智能科技有限公司
中电九天智能科技有限公司
王永良
;
黄俊林
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机构:
中电九天智能科技有限公司
中电九天智能科技有限公司
黄俊林
;
曹磊
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机构:
中电九天智能科技有限公司
中电九天智能科技有限公司
曹磊
;
邢雪阳
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机构:
中电九天智能科技有限公司
中电九天智能科技有限公司
邢雪阳
;
巫俊丽
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0
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0
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0
机构:
中电九天智能科技有限公司
中电九天智能科技有限公司
巫俊丽
.
中国专利
:CN120806833A
,2025-10-17
[10]
半导体制造过程中质量计量装置
[P].
孙正
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机构:
孙正
孙正
孙正
.
中国专利
:CN117816560A
,2024-04-05
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