ELECTROMIGRATION FAILURE IN A1 THIN-FILMS UNDER CONSTANT AND REVERSED DC POWERING

被引:6
作者
BOBBIO, A [1 ]
FERRO, A [1 ]
SARACCO, O [1 ]
机构
[1] INST ELETTROTECH NAZL GALILEO FERRARIS,10125 TURIN,ITALY
关键词
D O I
10.1109/TR.1974.5215244
中图分类号
TP3 [计算技术、计算机技术];
学科分类号
0812 ;
摘要
引用
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页码:194 / 202
页数:9
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