FORMATION OF SHALLOW SCHOTTKY CONTACTS TO SI USING PT-SI AND PD-SI ALLOY-FILMS

被引:30
作者
EIZENBERG, M [1 ]
FOELL, H [1 ]
TU, KN [1 ]
机构
[1] IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598
关键词
D O I
10.1063/1.328850
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:861 / 868
页数:8
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