DIFFUSION OF NICKEL IN SILICON BELOW 475-DEGREES-C

被引:15
作者
BERNING, GLP
LEVENSON, LL
机构
[1] UNIV MISSOURI,DEPT PHYS,ROLLA,MO 65401
[2] UNIV MISSOURI,GRAD CTR MAT RES,ROLLA,MO 65401
关键词
D O I
10.1016/0040-6090(78)90164-5
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
引用
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页码:473 / 482
页数:10
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