电子助进化学气相沉积金刚石中发射光谱的蒙特卡罗模拟

被引：4

作者：

王志军

董丽芳

尚勇

机构：

[1] 河北大学物理科学与技术学院

来源：

物理学报 | 2005年 / 02期

关键词：

蒙特卡罗模拟; 金刚石薄膜; 发射光谱;

D O I：

暂无

中图分类号：

O613.71 [碳C];

学科分类号：

摘要：

采用蒙特卡罗方法 ,对源料气体为CH4 H2 混合气的电子助进化学气相沉积 (EACVD)中的氢原子 (H)、碳原子(C)以及CH基团的发射过程进行了模拟 .研究了CH4 浓度、反应室气压和衬底偏压等工艺参数对发射光谱及成膜的影响 .研究发现 ,CH基团可能是有利于金刚石薄膜生长的活性基团 ,而碳原子不是 ;偏压的升高可提高电子平均温度及衬底表面附近氢原子的相对浓度 ;通过氢原子谱线可测定电子平均温度并找到最佳成膜实验条件 .该结果对EACVD生长金刚石薄膜过程中实时监测电子平均温度 ,有效控制工艺条件 ,生长出高质量的金刚石薄膜具有重要的意义 .

引用

页码：880 / 885

页数：6

共 6 条

[1] 氢的强化刻蚀对金刚石薄膜品质的影响与sp2杂化碳原子的存在形态 [J].