新世纪光刻技术及光刻设备的发展趋势

被引：19

作者：

苏雪莲

机构：

[1] 中国华晶电子集团公司技术支援中心!江苏无锡

来源：

关键词：

光学光刻; 微电子技术; 专用设备; 极限;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN305.7 [光刻、掩膜];

学科分类号：

1401 ;

摘要：

本文主要阐述了光刻技术的发展极限及 193nm、 157nm光学光刻技术和电子束投影光刻 (SCALPEL)、X -射线光刻 (XRL)离子投影光刻 (IPL)等技术的发展趋势。并详细介绍了国际著名品牌的光刻机以及即将推出的新一代光刻机。对国内光刻设备的发展现状作了简要概述。

引用

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共 6 条

[1] 展望21世纪半导体生产设备和材料市场 [J].

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[2] 微光刻技术的发展 [J].

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[3] 21世纪的光刻技术 [J].

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[4] 迈向新世纪的光学光刻 [J].

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[5] 光学光刻的现状及未来 [J].

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