NEW HYDRIDE VAPOR-PHASE EPITAXY FOR GAP GROWTH ON SI

被引:46
作者
MORI, H
OGASAWARA, M
YAMAMOTO, M
TACHIKAWA, M
机构
关键词
D O I
10.1063/1.98693
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:1245 / 1247
页数:3
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