CHEMICAL BEAM EPITAXIAL-GROWTH OF VERY LOW THRESHOLD GA0.47IN0.53AS-INP DOUBLE-HETEROSTRUCTURE AND MULTIQUANTUM WELL LASERS

被引:29
作者
TSANG, WT
机构
关键词
D O I
10.1063/1.97455
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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