SF6 PLASMA-ETCHING OF SILICON - EVIDENCE OF SEQUENTIAL MULTILAYER FLUORINE ADSORPTION

被引:26
作者
PELLETIER, J
ARNAL, Y
DURANDET, A
机构
[1] CNRS, Meylan, Fr, CNRS, Meylan, Fr
来源
EUROPHYSICS LETTERS | 1987年 / 4卷 / 09期
关键词
SULFUR HEXAFLUORIDE;
D O I
10.1209/0295-5075/4/9/016
中图分类号
O4 [物理学];
学科分类号
0702 ;
摘要
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页码:1049 / 1054
页数:6
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