INTERACTIONS IN METALLIZATION SYSTEMS FOR INTEGRATED-CIRCUITS

被引:45
作者
MURARKA, SP [1 ]
机构
[1] AT&T BELL LABS,MURRAY HILL,NJ 07974
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1984年 / 2卷 / 04期
关键词
D O I
10.1116/1.582864
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
引用
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页码:693 / 706
页数:14
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