EPITAXIAL NICKEL AND COBALT SILICIDE FORMATION BY RAPID THERMAL ANNEALING

被引：15

作者：

CHEVALLIER, J

LARSEN, AN

机构：

来源：

APPLIED PHYSICS A-MATERIALS SCIENCE & PROCESSING | 1986年 / 39卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1007/BF00616832

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：141 / 145

页数：5

共 17 条

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