ARF EXCIMER LASER DOPING OF BORON INTO SILICON

被引:13
作者
FOULON, F
SLAOUI, A
SIFFERT, P
机构
关键词
D O I
10.1016/0169-4332(89)90235-3
中图分类号
O64 [物理化学(理论化学)、化学物理学];
学科分类号
070304 ; 081704 ;
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页码:333 / 339
页数:7
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