INSITU SCANNING MICROPROBE REFLECTION HIGH-ENERGY ELECTRON-DIFFRACTION OBSERVATION OF GAAS-SURFACES DURING MOLECULAR-BEAM EPITAXIAL-GROWTH

被引:16
作者
ISU, T
HATA, M
WATANABE, A
KATAYAMA, Y
机构
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1989年 / 7卷 / 04期
关键词
D O I
10.1116/1.584631
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
引用
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页码:714 / 719
页数:6
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