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一种氮化钽埋嵌式薄膜电阻晶相调控及制备方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202311684313.9
申请日
:
2023-12-11
公开(公告)号
:
CN117637270A
公开(公告)日
:
2024-03-01
发明(设计)人
:
徐永兵
潘正灿
严羽
申请人
:
南京大学
申请人地址
:
210026 江苏省南京市栖霞区仙林大道163号
IPC主分类号
:
H01C17/075
IPC分类号
:
H01C7/00
代理机构
:
南京众联专利代理有限公司 32206
代理人
:
杜静静
法律状态
:
公开
国省代码
:
江苏省 南京市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-03-01
公开
公开
2024-03-19
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H01C 17/075申请日:20231211
共 50 条
[1]
一种调控氮化钽薄膜电阻阻值的方法
[P].
庄彤
论文数:
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庄彤
;
杨俊锋
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杨俊锋
;
李杰成
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李杰成
;
庄严
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庄严
.
中国专利
:CN103971874A
,2014-08-06
[2]
一种氮化钽薄膜制备方法
[P].
茆同海
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机构:
华通芯电(南昌)电子科技有限公司
华通芯电(南昌)电子科技有限公司
茆同海
;
侯汉成
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机构:
华通芯电(南昌)电子科技有限公司
华通芯电(南昌)电子科技有限公司
侯汉成
;
刘坤明
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机构:
华通芯电(南昌)电子科技有限公司
华通芯电(南昌)电子科技有限公司
刘坤明
;
宋嘉铭
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机构:
华通芯电(南昌)电子科技有限公司
华通芯电(南昌)电子科技有限公司
宋嘉铭
.
中国专利
:CN118222973A
,2024-06-21
[3]
一种高效氮化钽薄膜电阻及其制备方法
[P].
李海鸥
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李海鸥
;
牟凯瑞
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牟凯瑞
;
刘兴鹏
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刘兴鹏
;
杨曌
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杨曌
;
沓世我
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沓世我
.
中国专利
:CN115020052A
,2022-09-06
[4]
一种可调控薄层电阻率的氮化钽薄膜的制备方法
[P].
唐云俊
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唐云俊
;
王昱翔
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0
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王昱翔
.
中国专利
:CN114574825A
,2022-06-03
[5]
氮化钽薄膜电阻及其制备方法
[P].
邹鹏辉
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0
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邹鹏辉
;
马飞
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马飞
;
莫炯炯
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莫炯炯
;
蔡全福
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蔡全福
;
魏婷婷
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魏婷婷
.
中国专利
:CN112562946A
,2021-03-26
[6]
一种氮化钽薄膜生长方法及氮化钽薄膜
[P].
夏洋
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机构:
北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司
北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司
夏洋
;
薛翔宇
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机构:
北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司
北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司
薛翔宇
;
明帅强
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机构:
北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司
北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司
明帅强
;
屈芙蓉
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机构:
北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司
北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司
屈芙蓉
;
何萌
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机构:
北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司
北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司
何萌
;
赵丽莉
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机构:
北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司
北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司
赵丽莉
;
吴非
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机构:
北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司
北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司
吴非
;
夏天
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机构:
北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司
北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司
夏天
.
中国专利
:CN120888889A
,2025-11-04
[7]
一种氮化钽薄膜的制备方法
[P].
不公告发明人
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0
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0
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不公告发明人
.
中国专利
:CN110783049A
,2020-02-11
[8]
一种离子注入调控氮化钽薄膜电阻阻值的方法
[P].
庄彤
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庄彤
;
丁明建
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丁明建
;
李杰成
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李杰成
;
李锦添
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李锦添
;
杨俊峰
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0
杨俊峰
.
中国专利
:CN104361967B
,2015-02-18
[9]
一种氮化钽薄膜及其制备方法
[P].
闫广平
论文数:
0
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闫广平
.
中国专利
:CN114150281B
,2022-03-08
[10]
一种极低电阻温度系数的埋嵌电阻薄膜材料及制备方法
[P].
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机构:
徐永兵
;
论文数:
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机构:
王灿
;
论文数:
引用数:
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机构:
严羽
.
中国专利
:CN119381104A
,2025-01-28
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