半导体处理设备以及用于监测和控制半导体处理设备的方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201910155754.7
申请日
2019-03-01
公开(公告)号
CN110246777B
公开(公告)日
2024-03-01
发明(设计)人
M·韦格赫瑟 T·邓恩 J·K·舒格鲁
申请人
ASMIP控股有限公司
申请人地址
荷兰阿尔梅勒
IPC主分类号
H01L21/67
IPC分类号
代理机构
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人
王冉
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体处理设备以及用于监测和控制半导体处理设备的方法 [P]. 
M·韦格赫瑟 ;
T·邓恩 ;
J·K·舒格鲁 .
中国专利 :CN110246777A ,2019-09-17
[2]
半导体处理设备的控制方法和半导体处理设备 [P]. 
王明辉 ;
邢志刚 ;
徐春阳 ;
刘雷 .
中国专利 :CN119764224A ,2025-04-04
[3]
半导体处理设备的控制方法和半导体处理设备 [P]. 
王明辉 ;
邢志刚 ;
徐春阳 ;
刘雷 .
中国专利 :CN119764224B ,2025-05-02
[4]
半导体处理设备以及用于校准半导体处理设备的方法 [P]. 
S·拉贾贝鲁 ;
J·托尔 ;
R·麦克卡特尼 .
中国专利 :CN109103125A ,2018-12-28
[5]
半导体处理设备以及用于校准半导体处理设备的方法 [P]. 
S·拉贾贝鲁 ;
J·托尔 ;
R·麦克卡特尼 .
:CN109103125B ,2024-04-02
[6]
用于半导体处理设备的物料调度方法和半导体处理设备 [P]. 
陆柏耆 ;
王逸帆 ;
齐明 ;
王传道 .
中国专利 :CN119168328B ,2025-05-13
[7]
用于半导体处理设备的物料调度方法和半导体处理设备 [P]. 
陆柏耆 ;
王逸帆 ;
齐明 ;
王传道 .
中国专利 :CN119168328A ,2024-12-20
[8]
半导体处理设备组以及半导体处理设备 [P]. 
温子瑛 .
中国专利 :CN107564830A ,2018-01-09
[9]
用于处理半导体晶片的半导体处理设备 [P]. 
J·H·张 .
中国专利 :CN203503622U ,2014-03-26
[10]
半导体设备处理方法及半导体处理设备 [P]. 
付海涛 ;
庄宇峰 ;
吕术亮 ;
李远 ;
董维 ;
谢忠帅 ;
徐立 .
中国专利 :CN120231030A ,2025-07-01