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半导体处理设备以及用于校准半导体处理设备的方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201810612758.9
申请日：
2018-06-14
公开(公告)号：
CN109103125A
公开(公告)日：
2018-12-28
发明(设计)人：
S·拉贾贝鲁
J·托尔
R·麦克卡特尼
申请人：
申请人地址：
荷兰阿尔梅勒
IPC主分类号：
H01L2167
IPC分类号：
代理机构：
上海专利商标事务所有限公司 31100
代理人：
汪骏飞;侯颖媖
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2018-12-28 | 公开 | 公开 |
| 2020-07-07 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20180614 |