原子层沉积法用薄膜形成原料、薄膜的制造方法以及醇盐化合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201980082940.0

申请日：

2019-12-03

公开(公告)号：

CN113195784A

公开(公告)日：

2021-07-30

发明(设计)人：

樱井淳畑濑雅子吉野智晴西田章浩山下敦史

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

C23C1618

IPC分类号：

C23C1640 C23C16455

代理机构：

北京品源专利代理有限公司 11332

代理人：

吕琳;朴秀玉

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-08-17	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/18 申请日:20191203
2021-07-30	公开	公开

共 50 条

[1]

原子层沉积法用薄膜形成用原料及薄膜的制造方法 [P].

武田圭介 ;

远津正挥 .

日本专利 :CN115362282B ,2024-03-29

[2]

原子层沉积法用薄膜形成用原料及薄膜的制造方法 [P].

武田圭介 ;

远津正挥 .

日本专利 :CN118223007A ,2024-06-21

[3]

原子层沉积法用薄膜形成用原料及薄膜的制造方法 [P].

武田圭介 ;

远津正挥 .

中国专利 :CN115362282A ,2022-11-18

[4]

醇盐化合物以及薄膜形成用原料 [P].

和田仙二 ;

斋藤昭夫 ;

吉野智晴 .

中国专利 :CN103502202B ,2014-01-08

[5]

用于原子层沉积法的薄膜形成用原料、薄膜形成用原料、薄膜的制造方法及化合物 [P].

冈田奈奈 ;

吉野智晴 ;

山下敦史 .

中国专利 :CN112789367A ,2021-05-11

[6]

原子层沉积法用薄膜形成用原料以及薄膜的制造方法 [P].

远津正挥 ;

武田圭介 ;

西田章浩 .

中国专利 :CN112004959A ,2020-11-27

[7]

金属醇盐化合物、薄膜形成用原料、薄膜的制造方法和醇化合物 [P].

樱井淳 ;

畑濑雅子 ;

山田直树 ;

白鸟翼 ;

斋藤昭夫 ;

吉野智晴 .

中国专利 :CN104470892B ,2015-03-25

[8]

金属醇盐化合物、薄膜形成用原料及薄膜的制造方法 [P].

冈田奈奈 ;

畑濑雅子 ;

西田章浩 ;

樱井淳 .

中国专利 :CN111032663A ,2020-04-17

[9]

金属醇盐化合物、薄膜形成用原料及薄膜制造方法 [P].

和田仙二 ;

阿部彻司 ;

樱井淳 ;

东野贵志 ;

藤本龙作 ;

清水雅子 .

中国专利 :CN101143873A ,2008-03-19

[10]

醇盐化合物、薄膜形成用原料、薄膜的形成方法和醇化合物 [P].

樱井淳 ;

畑濑雅子 ;

吉野智晴 ;

远津正挥 .

中国专利 :CN106660946B ,2017-05-10

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