醇盐化合物、薄膜形成用原料、薄膜的形成方法和醇化合物

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201580040201.7
申请日
2015-07-16
公开(公告)号
CN106660946B
公开(公告)日
2017-05-10
发明(设计)人
樱井淳 畑濑雅子 吉野智晴 远津正挥
申请人
申请人地址
日本东京
IPC主分类号
C07C25108
IPC分类号
C23C1618 H01L21285 C07F108 C07F1506
代理机构
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038
代理人
吴宗颐
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
金属醇盐化合物、薄膜形成用原料、薄膜的制造方法和醇化合物 [P]. 
樱井淳 ;
畑濑雅子 ;
山田直树 ;
白鸟翼 ;
斋藤昭夫 ;
吉野智晴 .
中国专利 :CN104470892B ,2015-03-25
[2]
醇盐化合物以及薄膜形成用原料 [P]. 
和田仙二 ;
斋藤昭夫 ;
吉野智晴 .
中国专利 :CN103502202B ,2014-01-08
[3]
金属醇盐化合物、薄膜形成用原料及薄膜制造方法 [P]. 
和田仙二 ;
阿部彻司 ;
樱井淳 ;
东野贵志 ;
藤本龙作 ;
清水雅子 .
中国专利 :CN101143873A ,2008-03-19
[4]
金属醇盐化合物、薄膜形成用原料及薄膜的制造方法 [P]. 
冈田奈奈 ;
畑濑雅子 ;
西田章浩 ;
樱井淳 .
中国专利 :CN111032663A ,2020-04-17
[5]
金属醇盐化合物、薄膜形成用原料及薄膜的制造方法 [P]. 
樱井淳 ;
畑濑雅子 ;
冈田奈奈 ;
西田章浩 .
中国专利 :CN110709381A ,2020-01-17
[6]
化合物、薄膜形成用原料、薄膜的制造方法和脒化合物 [P]. 
吉野智晴 ;
冈田奈奈 ;
西田章浩 ;
山下敦史 .
中国专利 :CN109923119B ,2019-06-21
[7]
化合物、薄膜形成用原料和薄膜的制造方法 [P]. 
斋藤昭夫 ;
青木雄太郎 .
中国专利 :CN114787168A ,2022-07-22
[8]
原子层沉积法用薄膜形成原料、薄膜的制造方法以及醇盐化合物 [P]. 
樱井淳 ;
畑濑雅子 ;
吉野智晴 ;
西田章浩 ;
山下敦史 .
中国专利 :CN113195784A ,2021-07-30
[9]
钨化合物、薄膜形成用原料和薄膜的制造方法 [P]. 
斋藤昭夫 ;
白鸟翼 ;
青木雄太郎 .
中国专利 :CN110831950B ,2020-02-21
[10]
化合物薄膜形成装置 [P]. 
伊藤弘基 .
中国专利 :CN87107161A ,1988-05-11