金属醇盐化合物、薄膜形成用原料及薄膜制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200710152709.3

申请日：

2007-09-14

公开(公告)号：

CN101143873A

公开(公告)日：

2008-03-19

发明(设计)人：

和田仙二阿部彻司樱井淳东野贵志藤本龙作清水雅子

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

C07F700

IPC分类号：

C07F728 C23C1618 C23C1630 C23C1640 C23C16448

代理机构：

永新专利商标代理有限公司

代理人：

陈建全

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-07-25	授权	授权
2008-03-19	公开	公开
2009-08-26	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

金属醇盐化合物、薄膜形成用原料及薄膜的制造方法 [P].

冈田奈奈 ;

畑濑雅子 ;

西田章浩 ;

樱井淳 .

中国专利 :CN111032663A ,2020-04-17

[2]

金属醇盐化合物、薄膜形成用原料及薄膜的制造方法 [P].

樱井淳 ;

畑濑雅子 ;

冈田奈奈 ;

西田章浩 .

中国专利 :CN110709381A ,2020-01-17

[3]

金属醇盐化合物、薄膜形成用原料、薄膜的制造方法和醇化合物 [P].

樱井淳 ;

畑濑雅子 ;

山田直树 ;

白鸟翼 ;

斋藤昭夫 ;

吉野智晴 .

中国专利 :CN104470892B ,2015-03-25

[4]

醇盐化合物以及薄膜形成用原料 [P].

和田仙二 ;

斋藤昭夫 ;

吉野智晴 .

中国专利 :CN103502202B ,2014-01-08

[5]

金属化合物、薄膜形成用原料及薄膜的制造方法 [P].

樱井淳 ;

山田直树 .

中国专利 :CN1898192A ,2007-01-17

[6]

金属化合物、薄膜形成用原料及薄膜的制造方法 [P].

芳仲笃也 ;

樱井淳 .

中国专利 :CN101052615B ,2007-10-10

[7]

醇盐化合物、薄膜形成用原料、薄膜的形成方法和醇化合物 [P].

樱井淳 ;

畑濑雅子 ;

吉野智晴 ;

远津正挥 .

中国专利 :CN106660946B ,2017-05-10

[8]

原子层沉积法用薄膜形成原料、薄膜的制造方法以及醇盐化合物 [P].

樱井淳 ;

畑濑雅子 ;

吉野智晴 ;

西田章浩 ;

山下敦史 .

中国专利 :CN113195784A ,2021-07-30

[9]

铜化合物、薄膜形成用原料及薄膜的制造方法 [P].

吉野智晴 ;

远津正挥 ;

樱井淳 ;

西田章浩 ;

冈部诚 .

中国专利 :CN106458849B ,2017-02-22

[10]

化合物、薄膜形成用原料和薄膜的制造方法 [P].

斋藤昭夫 ;

青木雄太郎 .

中国专利 :CN114787168A ,2022-07-22

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