一种GaN增强型MIS-HFET器件及其制备方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201210381515.1
申请日
2012-10-10
公开(公告)号
CN102856374B
公开(公告)日
2013-01-02
发明(设计)人
刘扬 张金城 贺致远 张佰君
申请人
申请人地址
510275 广东省广州市新港西路135号中山大学物理科学与工程技术学院
IPC主分类号
H01L29778
IPC分类号
H01L21335
代理机构
广州粤高专利商标代理有限公司 44102
代理人
禹小明
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
GaN增强型MISFET器件及其制备方法 [P]. 
刘扬 ;
贺致远 ;
姚尧 .
中国专利 :CN102082176A ,2011-06-01
[2]
一种GaN基增强型MOSHFET器件及其制备方法 [P]. 
刘扬 ;
姚尧 ;
张佰君 .
中国专利 :CN102368501A ,2012-03-07
[3]
增强型GaN基MIS-HEMT器件及其制备方法 [P]. 
孙慧卿 ;
夏凡 ;
夏晓宇 ;
谭秀洋 ;
马建铖 ;
张淼 ;
李渊 .
中国专利 :CN111613668B ,2020-09-01
[4]
一种增强型MIS-GaN器件 [P]. 
易波 .
中国专利 :CN114520262A ,2022-05-20
[5]
一种增强型GaN功率器件及其制备方法 [P]. 
武乐可 ;
范晓成 ;
李亦衡 ;
朱廷刚 .
中国专利 :CN115376919A ,2022-11-22
[6]
GaN高阈值电压增强型MOSHFET器件及制备方法 [P]. 
刘扬 ;
沈震 ;
张佰君 .
中国专利 :CN102386223B ,2012-03-21
[7]
增强型GaN基功率器件及其制备方法 [P]. 
张卫 ;
卢红亮 ;
黄伟 ;
蒋西西 .
中国专利 :CN109545851A ,2019-03-29
[8]
一种常关型氧化镓基MIS-HFET器件 [P]. 
杨伟锋 ;
帅浩 ;
张明昆 .
中国专利 :CN113363319B ,2021-09-07
[9]
一种增强型GaN HEMT器件及其制备方法 [P]. 
卢双赞 ;
李思超 ;
柳俊 ;
贾汉祥 ;
程涛 ;
赵波 ;
刘力 .
中国专利 :CN120264802A ,2025-07-04
[10]
一种增强型GaN HEMT器件及其制备方法 [P]. 
汪洋 ;
左朋 ;
王世卓荦 ;
杨浩军 ;
王晓晖 ;
丁国建 ;
张宇超 ;
冯琦 ;
王海玲 ;
贾海强 ;
陈弘 .
中国专利 :CN111755332A ,2020-10-09