含有V族金属的前体及其对含有金属的膜的沉积的应用

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200780039828.6

申请日：

2007-10-19

公开(公告)号：

CN101528759B

公开(公告)日：

2009-09-09

发明(设计)人：

N·布拉斯科 S·达尼埃尔 N·梅尔 C·迪萨拉

申请人：

申请人地址：

法国巴黎

IPC主分类号：

C07F1700

IPC分类号：

C23C1630

代理机构：

北京市中咨律师事务所 11247

代理人：

林柏楠;刘金辉

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-09-09	公开	公开
2009-12-09	实质审查的生效	实质审查的生效
2013-01-09	授权	授权

共 50 条

[1]

用于2族金属氧化物膜的沉积的2族金属前体 [P].

雷新建 ;

D·P·斯彭斯 ;

J·A·T·诺曼 ;

M·厄尔曼 .

中国专利 :CN101735082A ,2010-06-16

[2]

用于薄膜沉积的新V族和VI族过渡金属前体 [P].

李国璨 ;

S·V·伊瓦诺维 ;

雷新建 ;

李宏波 .

中国专利 :CN114269762A ,2022-04-01

[3]

金属膜的沉积 [P].

约瑟亚·科林斯 ;

格里芬·约翰·肯尼迪 ;

汉娜·班诺克尔 ;

帕特里克·范克利蒙布特 ;

塞沙萨耶·瓦拉达拉简 .

中国专利 :CN113366144A ,2021-09-07

[4]

有机金属络合物及其作为金属薄膜沉积前体的应用 [P].

雷新建 ;

萧满超 ;

H·思里丹达姆 ;

K·S·库思尔 .

中国专利 :CN100400705C ,2006-08-09

[5]

用于陶瓷和金属薄膜沉积的前体化合物及其制备方法 [P].

申铉国 .

中国专利 :CN1733967A ,2006-02-15

[6]

用于金属氧化物层或膜沉积的前体 [P].

A·C·琼斯 .

中国专利 :CN100526318C ,2006-04-19

[7]

用于沉积多组分金属氧化物薄膜的第2族金属前体 [P].

雷新建 ;

L·J·奎因 ;

D·P·斯彭斯 .

中国专利 :CN101328188A ,2008-12-24

[8]

含有过渡金属的效果颜料 [P].

C·汉德罗施 ;

F·普福鲁克 .

中国专利 :CN101451022A ,2009-06-10

[9]

含碱土金属的膜的沉积法 [P].

D·汤普森 .

中国专利 :CN104350175A ,2015-02-11

[10]

用于沉积贫氧金属膜的方法 [P].

C·舒伯特 ;

E-X·平 ;

Y·森扎齐 .

中国专利 :CN104471689A ,2015-03-25

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