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一种超声电化学机械抛光蓝宝石衬底材料的装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201910546739.5
申请日
:
2019-06-24
公开(公告)号
:
CN110587387A
公开(公告)日
:
2019-12-20
发明(设计)人
:
许文虎
程远瑶
钟敏
袁任江
蒋建中
申请人
:
申请人地址
:
330000 江西省南昌市东湖区红谷滩新区学府大道999号
IPC主分类号
:
B24B104
IPC分类号
:
B24B3711
B24B3734
B24B4722
B24B5702
代理机构
:
南昌青远专利代理事务所(普通合伙) 36123
代理人
:
刘爱芳
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-01-14
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 1/04 申请日:20190624
2019-12-20
公开
公开
共 50 条
[11]
一种电化学机械抛光设备
[P].
吴尚东
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机构:
北京晶亦精微科技股份有限公司
北京晶亦精微科技股份有限公司
吴尚东
;
史霄
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北京晶亦精微科技股份有限公司
北京晶亦精微科技股份有限公司
史霄
;
刘福强
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北京晶亦精微科技股份有限公司
北京晶亦精微科技股份有限公司
刘福强
;
尹影
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北京晶亦精微科技股份有限公司
北京晶亦精微科技股份有限公司
尹影
;
李婷
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北京晶亦精微科技股份有限公司
北京晶亦精微科技股份有限公司
李婷
.
中国专利
:CN119077609A
,2024-12-06
[12]
一种电化学机械抛光装置
[P].
左晓磊
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北京晶亦精微科技股份有限公司
北京晶亦精微科技股份有限公司
左晓磊
;
王磊
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北京晶亦精微科技股份有限公司
北京晶亦精微科技股份有限公司
王磊
;
张康
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北京晶亦精微科技股份有限公司
北京晶亦精微科技股份有限公司
张康
;
刘永进
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北京晶亦精微科技股份有限公司
北京晶亦精微科技股份有限公司
刘永进
;
李婷
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机构:
北京晶亦精微科技股份有限公司
北京晶亦精微科技股份有限公司
李婷
.
中国专利
:CN117568908A
,2024-02-20
[13]
一种电化学机械抛光方法
[P].
杨亮
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北京晶亦精微科技股份有限公司
北京晶亦精微科技股份有限公司
杨亮
;
王磊
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北京晶亦精微科技股份有限公司
北京晶亦精微科技股份有限公司
王磊
;
左晓磊
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北京晶亦精微科技股份有限公司
北京晶亦精微科技股份有限公司
左晓磊
;
张康
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北京晶亦精微科技股份有限公司
北京晶亦精微科技股份有限公司
张康
;
李婷
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北京晶亦精微科技股份有限公司
北京晶亦精微科技股份有限公司
李婷
.
中国专利
:CN117943966A
,2024-04-30
[14]
一种用于电化学机械抛光的抛光吸附盘机构及电化学机械抛光系统
[P].
朱自强
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杭州众硅电子科技有限公司
杭州众硅电子科技有限公司
朱自强
;
杨渊思
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杭州众硅电子科技有限公司
杭州众硅电子科技有限公司
杨渊思
.
中国专利
:CN120533612A
,2025-08-26
[15]
一种碳化硅晶片电化学机械抛光装置及工艺
[P].
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机构:
刘贵昌
;
朱柳泉
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机构:
大连理工大学
大连理工大学
朱柳泉
;
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机构:
孙文
;
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机构:
杨政清
;
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机构:
王立达
;
陈煦
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机构:
大连理工大学
大连理工大学
陈煦
.
中国专利
:CN120461315A
,2025-08-12
[16]
一种电化学机械抛光及平坦化装置
[P].
顾海洋
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机构:
杭州众硅电子科技有限公司
杭州众硅电子科技有限公司
顾海洋
;
时泽健
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杭州众硅电子科技有限公司
杭州众硅电子科技有限公司
时泽健
;
朱政挺
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机构:
杭州众硅电子科技有限公司
杭州众硅电子科技有限公司
朱政挺
;
朱自强
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杭州众硅电子科技有限公司
杭州众硅电子科技有限公司
朱自强
;
杨渊思
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机构:
杭州众硅电子科技有限公司
杭州众硅电子科技有限公司
杨渊思
.
中国专利
:CN120206393A
,2025-06-27
[17]
一种碳化硅衬底电化学机械抛光方法
[P].
杨亮
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机构:
北京晶亦精微科技股份有限公司
北京晶亦精微科技股份有限公司
杨亮
;
蔡长益
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机构:
北京晶亦精微科技股份有限公司
北京晶亦精微科技股份有限公司
蔡长益
;
潘宏明
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北京晶亦精微科技股份有限公司
北京晶亦精微科技股份有限公司
潘宏明
;
左晓磊
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北京晶亦精微科技股份有限公司
北京晶亦精微科技股份有限公司
左晓磊
;
成晓畅
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北京晶亦精微科技股份有限公司
北京晶亦精微科技股份有限公司
成晓畅
;
李正仁
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机构:
北京晶亦精微科技股份有限公司
北京晶亦精微科技股份有限公司
李正仁
.
中国专利
:CN120533608A
,2025-08-26
[18]
一种电化学机械抛光及平坦化装置
[P].
顾海洋
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机构:
杭州众硅电子科技有限公司
杭州众硅电子科技有限公司
顾海洋
;
时泽健
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机构:
杭州众硅电子科技有限公司
杭州众硅电子科技有限公司
时泽健
;
朱政挺
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机构:
杭州众硅电子科技有限公司
杭州众硅电子科技有限公司
朱政挺
;
朱自强
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机构:
杭州众硅电子科技有限公司
杭州众硅电子科技有限公司
朱自强
;
杨渊思
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机构:
杭州众硅电子科技有限公司
杭州众硅电子科技有限公司
杨渊思
.
中国专利
:CN222843823U
,2025-05-09
[19]
一种用于电化学机械抛光的抛光部件
[P].
P·D·巴特菲尔德
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P·D·巴特菲尔德
;
L-Y·陈
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L-Y·陈
;
Y·胡
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Y·胡
;
A·P·曼那斯
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A·P·曼那斯
;
R·马伍利乌
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R·马伍利乌
;
S·D·蔡
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S·D·蔡
;
F·Q·刘
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F·Q·刘
;
R·威登斯维勒
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R·威登斯维勒
.
中国专利
:CN200970715Y
,2007-11-07
[20]
一种电化学机械抛光头及抛光装置
[P].
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机构:
王子睿
;
论文数:
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机构:
王永光
;
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机构:
刘庆升
;
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机构:
丁钊
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机构:
朱睿
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机构:
成锋
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师晓曼
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机构:
苏州大学
苏州大学
师晓曼
;
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机构:
彭超
.
中国专利
:CN116423384B
,2024-06-21
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