互补金属氧化物半导体薄膜晶体管的制造方法

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专利类型
发明
申请号
CN200710141862.6
申请日
2007-08-14
公开(公告)号
CN101127328A
公开(公告)日
2008-02-20
发明(设计)人
黄义勋
申请人
申请人地址
韩国京畿道水原市
IPC主分类号
H01L218238
IPC分类号
H01L2184
代理机构
北京铭硕知识产权代理有限公司
代理人
韩明星;冯敏
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
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