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8英寸功率芯片的硅外延片生产工艺
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201711097978.4
申请日
:
2017-11-09
公开(公告)号
:
CN107699944B
公开(公告)日
:
2018-02-16
发明(设计)人
:
王作义
康宏
马洪文
胡宝平
陈小铎
崔永明
卞小玉
申请人
:
申请人地址
:
629000 四川省遂宁市国开区玉龙路598号创新创业孵化中心4011号
IPC主分类号
:
C30B2520
IPC分类号
:
C30B2508
C30B2514
C30B2510
C30B2906
代理机构
:
成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220
代理人
:
郭受刚
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2018-12-18
授权
授权
2018-02-16
公开
公开
2018-03-16
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C30B 25/20 申请日:20171109
共 50 条
[1]
硅8英寸大功率元器件外延片制备工艺
[P].
康宏
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康宏
;
王作义
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王作义
;
雒林生
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雒林生
;
石广宁
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石广宁
;
韩立琼
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韩立琼
.
中国专利
:CN111554565A
,2020-08-18
[2]
一种功率芯片用外延片生产工艺
[P].
王作义
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王作义
;
胡宝平
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胡宝平
;
陈小铎
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陈小铎
;
崔永明
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崔永明
;
马洪文
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马洪文
;
白磊
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白磊
.
中国专利
:CN106252209A
,2016-12-21
[3]
绝缘栅双极型晶体管的硅外延片生产工艺
[P].
王作义
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王作义
;
康宏
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康宏
;
马洪文
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马洪文
;
胡宝平
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胡宝平
;
陈小铎
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陈小铎
;
崔永明
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崔永明
;
卞小玉
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卞小玉
.
中国专利
:CN107845570A
,2018-03-27
[4]
一种8英寸肖特基管用硅外延片的制造方法
[P].
马林宝
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马林宝
.
中国专利
:CN104103499B
,2014-10-15
[5]
一种8英寸VDMOS功率管用硅外延片的制造方法
[P].
马梦杰
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马梦杰
.
中国专利
:CN110660649A
,2020-01-07
[6]
一种IGBT用8英寸硅外延片的制备方法
[P].
刘奇
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机构:
中国电子科技集团公司第四十六研究所
中国电子科技集团公司第四十六研究所
刘奇
;
龚一夫
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机构:
中国电子科技集团公司第四十六研究所
中国电子科技集团公司第四十六研究所
龚一夫
;
王亚倞
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中国电子科技集团公司第四十六研究所
中国电子科技集团公司第四十六研究所
王亚倞
;
赵扬
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中国电子科技集团公司第四十六研究所
中国电子科技集团公司第四十六研究所
赵扬
;
翟玥
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中国电子科技集团公司第四十六研究所
中国电子科技集团公司第四十六研究所
翟玥
;
图布新
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中国电子科技集团公司第四十六研究所
中国电子科技集团公司第四十六研究所
图布新
;
李明达
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中国电子科技集团公司第四十六研究所
中国电子科技集团公司第四十六研究所
李明达
;
傅颖洁
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中国电子科技集团公司第四十六研究所
中国电子科技集团公司第四十六研究所
傅颖洁
;
薛兵
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中国电子科技集团公司第四十六研究所
中国电子科技集团公司第四十六研究所
薛兵
;
李杨
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中国电子科技集团公司第四十六研究所
中国电子科技集团公司第四十六研究所
李杨
;
彭永纯
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中国电子科技集团公司第四十六研究所
中国电子科技集团公司第四十六研究所
彭永纯
;
唐发俊
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机构:
中国电子科技集团公司第四十六研究所
中国电子科技集团公司第四十六研究所
唐发俊
.
中国专利
:CN117626425B
,2024-04-26
[7]
一种IGBT用8英寸硅外延片的制备方法
[P].
刘奇
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中国电子科技集团公司第四十六研究所
中国电子科技集团公司第四十六研究所
刘奇
;
龚一夫
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中国电子科技集团公司第四十六研究所
中国电子科技集团公司第四十六研究所
龚一夫
;
王亚倞
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中国电子科技集团公司第四十六研究所
中国电子科技集团公司第四十六研究所
王亚倞
;
赵扬
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中国电子科技集团公司第四十六研究所
中国电子科技集团公司第四十六研究所
赵扬
;
翟玥
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中国电子科技集团公司第四十六研究所
中国电子科技集团公司第四十六研究所
翟玥
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图布新
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中国电子科技集团公司第四十六研究所
中国电子科技集团公司第四十六研究所
图布新
;
李明达
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中国电子科技集团公司第四十六研究所
中国电子科技集团公司第四十六研究所
李明达
;
傅颖洁
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机构:
中国电子科技集团公司第四十六研究所
中国电子科技集团公司第四十六研究所
傅颖洁
;
薛兵
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中国电子科技集团公司第四十六研究所
中国电子科技集团公司第四十六研究所
薛兵
;
李杨
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中国电子科技集团公司第四十六研究所
中国电子科技集团公司第四十六研究所
李杨
;
彭永纯
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中国电子科技集团公司第四十六研究所
中国电子科技集团公司第四十六研究所
彭永纯
;
唐发俊
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机构:
中国电子科技集团公司第四十六研究所
中国电子科技集团公司第四十六研究所
唐发俊
.
中国专利
:CN117626425A
,2024-03-01
[8]
一种减压生产12寸单晶硅外延片的工艺
[P].
赵而敬
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赵而敬
;
冯泉林
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冯泉林
;
闫志瑞
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闫志瑞
;
李宗峰
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李宗峰
;
盛方毓
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盛方毓
.
中国专利
:CN103820849A
,2014-05-28
[9]
一种可消除表面微颗粒团聚的12英寸单晶硅外延片减压生产工艺
[P].
胡晓亮
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机构:
麦斯克电子材料股份有限公司
麦斯克电子材料股份有限公司
胡晓亮
;
韩云霄
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机构:
麦斯克电子材料股份有限公司
麦斯克电子材料股份有限公司
韩云霄
;
张艺杰
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机构:
麦斯克电子材料股份有限公司
麦斯克电子材料股份有限公司
张艺杰
;
贾豪强
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机构:
麦斯克电子材料股份有限公司
麦斯克电子材料股份有限公司
贾豪强
.
中国专利
:CN120138794A
,2025-06-13
[10]
8英寸薄层外延片、均匀性控制方法及应用
[P].
张志勤
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张志勤
;
陈秉克
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陈秉克
;
赵丽霞
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赵丽霞
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袁肇耿
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袁肇耿
;
薛宏伟
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薛宏伟
;
任丽翠
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任丽翠
;
米姣
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米姣
.
中国专利
:CN106876248B
,2017-06-20
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