半导体元件用干冰清洗设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202011526642.7

申请日：

2020-12-22

公开(公告)号：

CN112657944A

公开(公告)日：

2021-04-16

发明(设计)人：

陈铁龙林智颖陈坤张振孙东初

申请人：

申请人地址：

215300 江苏省苏州市昆山市玉山镇城北水秀路1881号5号房

IPC主分类号：

B08B502

IPC分类号：

B08B700 B08B1300

代理机构：

苏州周智专利代理事务所(特殊普通合伙) 32312

代理人：

杨月芳

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-05-04	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B08B 5/02 申请日:20201222
2021-04-16	公开	公开

共 50 条

[1]

半导体元件用干冰清洗设备 [P].

陈铁龙 ;

林智颖 ;

陈坤 ;

张振 ;

孙东初 .

中国专利 :CN214160740U ,2021-09-10

[2]

半导体晶片用干冰清洗装置及半导体晶片的清洗方法 [P].

矢野良树 ;

渕上庆太 .

日本专利 :CN118056266A ,2024-05-17

[3]

一种半导体材料用干冰清洗机 [P].

陆立昌 ;

缪影华 ;

邓毕静 ;

李万杨 ;

陈浩杰 ;

邓武权 .

中国专利 :CN120243552A ,2025-07-04

[4]

半导体元件的清洗方法 [P].

冯颖 .

中国专利 :CN109427539A ,2019-03-05

[5]

半导体元件清洗用组合物 [P].

田村敦司 ;

土井康广 .

中国专利 :CN1645571A ,2005-07-27

[6]

半导体元件的清洗用液体组合物、半导体元件的清洗方法及半导体元件的制造方法 [P].

青山公洋 ;

田岛恒夫 .

中国专利 :CN106601598B ,2017-04-26

[7]

半导体元件的清洗用液体组合物、和半导体元件的清洗方法 [P].

岛田宪司 .

中国专利 :CN105210176A ,2015-12-30

[8]

半导体元件的清洗用液体组合物及半导体元件的清洗方法、以及半导体元件的制造方法 [P].

青山公洋 ;

田岛恒夫 .

中国专利 :CN106952803B ,2017-07-14

[9]

半导体元件和半导体设备 [P].

冨田知大 ;

平井友洋 ;

冈本晋太郎 ;

江田健太郎 ;

渡辺敬 ;

山口一树 ;

笠原则一 ;

铃木康平 .

中国专利 :CN112740398A ,2021-04-30

[10]

半导体元件和半导体设备 [P].

冨田知大 ;

平井友洋 ;

冈本晋太郎 ;

江田健太郎 ;

渡辺敬 ;

山口一树 ;

笠原则一 ;

铃木康平 .

日本专利 :CN112740398B ,2025-02-25

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