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基板旋转装置、基板清洗装置、基板处理装置以及基板旋转装置的控制方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201910733030.6
申请日：
2019-08-09
公开(公告)号：
CN110828335A
公开(公告)日：
2020-02-21
发明(设计)人：
佐藤一树
茨田敏光
申请人：
申请人地址：
日本国东京都大田区羽田旭町11番1号
IPC主分类号：
H01L2167
IPC分类号：
H01L21687
代理机构：
上海华诚知识产权代理有限公司 31300
代理人：
肖华
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2020-02-21 | 公开 | 公开 |
| 2021-04-30 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20190809 |