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沟槽式功率MOS半导体器件
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202021211707.4
申请日
:
2020-06-28
公开(公告)号
:
CN213366602U
公开(公告)日
:
2021-06-04
发明(设计)人
:
陈译
陆佳顺
杨洁雯
申请人
:
申请人地址
:
215000 江苏省苏州市苏州工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城NW20幢501室
IPC主分类号
:
H01L2978
IPC分类号
:
H01L29423
代理机构
:
苏州创元专利商标事务所有限公司 32103
代理人
:
马明渡;王健
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-06-04
授权
授权
共 50 条
[1]
深沟槽功率MOS半导体器件
[P].
黄彦智
论文数:
0
引用数:
0
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0
黄彦智
;
俞仲威
论文数:
0
引用数:
0
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0
俞仲威
.
中国专利
:CN213583800U
,2021-06-29
[2]
沟槽式功率MOS半导体器件
[P].
黄彦智
论文数:
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引用数:
0
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黄彦智
;
俞仲威
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俞仲威
.
中国专利
:CN213546321U
,2021-06-25
[3]
沟槽式功率MOS半导体器件
[P].
吴岩
论文数:
0
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0
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0
机构:
上海安导电子科技有限公司
上海安导电子科技有限公司
吴岩
;
茅寅松
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
上海安导电子科技有限公司
上海安导电子科技有限公司
茅寅松
.
中国专利
:CN220474612U
,2024-02-09
[4]
沟槽功率半导体器件
[P].
朱袁正
论文数:
0
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朱袁正
;
周锦程
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0
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0
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周锦程
.
中国专利
:CN213150783U
,2021-05-07
[5]
垂直功率MOS半导体器件
[P].
黄彦智
论文数:
0
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0
黄彦智
;
俞仲威
论文数:
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俞仲威
.
中国专利
:CN213583801U
,2021-06-29
[6]
MOS型功率半导体器件
[P].
黄彦智
论文数:
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黄彦智
;
俞仲威
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俞仲威
.
中国专利
:CN213988891U
,2021-08-17
[7]
功率MOS半导体器件
[P].
黄彦智
论文数:
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黄彦智
;
陆佳顺
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陆佳顺
;
杨洁雯
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杨洁雯
.
中国专利
:CN208111442U
,2018-11-16
[8]
垂直功率MOS半导体器件
[P].
陈译
论文数:
0
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0
陈译
;
陆佳顺
论文数:
0
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0
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0
陆佳顺
;
杨洁雯
论文数:
0
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0
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0
杨洁雯
.
中国专利
:CN212342637U
,2021-01-12
[9]
一种沟槽式高功率MOS半导体器件
[P].
陈智
论文数:
0
引用数:
0
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0
陈智
.
中国专利
:CN215955258U
,2022-03-04
[10]
MOS功率半导体器件
[P].
黄彦智
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黄彦智
;
陆佳顺
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陆佳顺
;
杨洁雯
论文数:
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0
杨洁雯
.
中国专利
:CN208385415U
,2019-01-15
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