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用于安装曝光装置的中间掩模的轮
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN200910165288.7
申请日
:
2009-08-14
公开(公告)号
:
CN101727015A
公开(公告)日
:
2010-06-09
发明(设计)人
:
朴钟夏
申请人
:
申请人地址
:
韩国忠清南道
IPC主分类号
:
G03F720
IPC分类号
:
代理机构
:
北京康信知识产权代理有限责任公司 11240
代理人
:
吴贵明
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2010-06-09
公开
公开
2012-07-11
发明专利申请公布后的视为撤回
发明专利申请公布后的视为撤回 号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101404126656 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2009101652887 公开日:20100609
共 50 条
[1]
用于曝光的掩模版、曝光方法以及半导体晶片的生产方法
[P].
清水宏信
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
清水宏信
.
中国专利
:CN103019039A
,2013-04-03
[2]
用于输送曝光装置的中间掩模的机器人夹持器
[P].
宋旺圭
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
宋旺圭
.
中国专利
:CN101727016A
,2010-06-09
[3]
曝光掩模和使用该曝光掩模的曝光方法
[P].
李树雄
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
李树雄
;
白尚润
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
白尚润
.
中国专利
:CN1637594A
,2005-07-13
[4]
中间掩模检查装置和投影曝光装置
[P].
石田肇
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社ORC制作所
株式会社ORC制作所
石田肇
;
中本裕见
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社ORC制作所
株式会社ORC制作所
中本裕见
;
田中浩
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社ORC制作所
株式会社ORC制作所
田中浩
;
川久保哲郎
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社ORC制作所
株式会社ORC制作所
川久保哲郎
;
山部耕平
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
株式会社ORC制作所
株式会社ORC制作所
山部耕平
;
松沢贤司
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
株式会社ORC制作所
株式会社ORC制作所
松沢贤司
;
千叶纯
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
株式会社ORC制作所
株式会社ORC制作所
千叶纯
;
日吉诚人
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社ORC制作所
株式会社ORC制作所
日吉诚人
.
日本专利
:CN119472159A
,2025-02-18
[5]
无掩模曝光装置
[P].
千田丽誉
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
千田丽誉
.
中国专利
:CN202306138U
,2012-07-04
[6]
无掩模曝光装置
[P].
押田良忠
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
押田良忠
;
内藤芳达
论文数:
0
引用数:
0
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0
内藤芳达
;
铃木光弘
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
铃木光弘
.
中国专利
:CN101526743A
,2009-09-09
[7]
使用曝光掩模的曝光方法
[P].
李树雄
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
李树雄
;
白尚润
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
白尚润
.
中国专利
:CN1979344B
,2007-06-13
[8]
用于光掩模的薄膜以及包括该薄膜的曝光装置
[P].
宋伣在
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
宋伣在
;
申铉振
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
申铉振
.
中国专利
:CN107561853A
,2018-01-09
[9]
一种用于曝光装置的掩模台
[P].
江旭初
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
江旭初
.
中国专利
:CN103376667B
,2013-10-30
[10]
曝光掩模的制造方法及其应用
[P].
伊藤正光
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
伊藤正光
.
中国专利
:CN1389902A
,2003-01-08
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