用于安装曝光装置的中间掩模的轮

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专利类型
发明
申请号
CN200910165288.7
申请日
2009-08-14
公开(公告)号
CN101727015A
公开(公告)日
2010-06-09
发明(设计)人
朴钟夏
申请人
申请人地址
韩国忠清南道
IPC主分类号
G03F720
IPC分类号
代理机构
北京康信知识产权代理有限责任公司 11240
代理人
吴贵明
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
用于曝光的掩模版、曝光方法以及半导体晶片的生产方法 [P]. 
清水宏信 .
中国专利 :CN103019039A ,2013-04-03
[2]
用于输送曝光装置的中间掩模的机器人夹持器 [P]. 
宋旺圭 .
中国专利 :CN101727016A ,2010-06-09
[3]
曝光掩模和使用该曝光掩模的曝光方法 [P]. 
李树雄 ;
白尚润 .
中国专利 :CN1637594A ,2005-07-13
[4]
中间掩模检查装置和投影曝光装置 [P]. 
石田肇 ;
中本裕见 ;
田中浩 ;
川久保哲郎 ;
山部耕平 ;
松沢贤司 ;
千叶纯 ;
日吉诚人 .
日本专利 :CN119472159A ,2025-02-18
[5]
无掩模曝光装置 [P]. 
千田丽誉 .
中国专利 :CN202306138U ,2012-07-04
[6]
无掩模曝光装置 [P]. 
押田良忠 ;
内藤芳达 ;
铃木光弘 .
中国专利 :CN101526743A ,2009-09-09
[7]
使用曝光掩模的曝光方法 [P]. 
李树雄 ;
白尚润 .
中国专利 :CN1979344B ,2007-06-13
[8]
用于光掩模的薄膜以及包括该薄膜的曝光装置 [P]. 
宋伣在 ;
申铉振 .
中国专利 :CN107561853A ,2018-01-09
[9]
一种用于曝光装置的掩模台 [P]. 
江旭初 .
中国专利 :CN103376667B ,2013-10-30
[10]
曝光掩模的制造方法及其应用 [P]. 
伊藤正光 .
中国专利 :CN1389902A ,2003-01-08