半导体设备反应腔室的清理设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201922351868.7

申请日：

2019-12-24

公开(公告)号：

CN211990114U

公开(公告)日：

2020-11-24

发明(设计)人：

王迪杏蒋伟王宁张阳秦文兵王金裕苗全盛路阳王伟顾育琪

申请人：

申请人地址：

214000 江苏省无锡市新吴区菱湖大道228号天安智慧城1-805

IPC主分类号：

B08B9093

IPC分类号：

B08B9087 H01L2167

代理机构：

连云港联创专利代理事务所(特殊普通合伙) 32330

代理人：

谷金颖

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-11-24	授权	授权

共 50 条

[1]

一种半导体设备反应腔室的清理设备 [P].

陶勇刚 ;

任凯强 ;

王乃雷 .

中国专利 :CN223337997U ,2025-09-16

[2]

半导体设备反应腔室的匀流装置、反应腔室和半导体设备 [P].

赵雷超 ;

赵联波 ;

沈宇鑫 ;

马原 .

中国专利 :CN215209615U ,2021-12-17

[3]

半导体设备和半导体设备的反应腔室的清理方法 [P].

郝亮 .

中国专利 :CN108878241A ,2018-11-23

[4]

反应腔室及半导体设备 [P].

梁永军 .

中国专利 :CN216749815U ,2022-06-14

[5]

半导体设备反应腔室 [P].

王德志 ;

柳朋亮 .

中国专利 :CN111105976B ,2020-05-05

[6]

半导体设备的反应腔室 [P].

王勇飞 ;

史小平 ;

郑波 ;

兰云峰 .

中国专利 :CN111739820A ,2020-10-02

[7]

半导体设备的反应腔室及半导体设备 [P].

刘建 .

中国专利 :CN111446199A ,2020-07-24

[8]

定位机构、反应腔室及半导体设备 [P].

宋伟健 ;

高智伟 ;

母凤文 ;

谭向虎 ;

刘福超 .

中国专利 :CN223743624U ,2025-12-30

[9]

反应腔室和半导体设备 [P].

王磊 ;

张超 ;

耿波 ;

罗建恒 ;

赵康宁 ;

邱国庆 ;

田西强 .

中国专利 :CN109735822B ,2019-05-10

[10]

反应腔室及半导体设备 [P].

白云强 ;

张源 ;

李金龙 ;

张洪 ;

张文 ;

谷孝刚 ;

李补忠 ;

郑建宇 .

中国专利 :CN115125523A ,2022-09-30

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