半导体元件及其制造方法

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专利类型
发明
申请号
CN201180037298.8
申请日
2011-07-26
公开(公告)号
CN103038902A
公开(公告)日
2013-04-10
发明(设计)人
门胁嘉孝 丰田达宪
申请人
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
H01L3332
IPC分类号
H01S5323
代理机构
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人
刘新宇;李茂家
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体元件及其制造方法 [P]. 
松本良辅 .
日本专利 :CN112771671B ,2024-12-17
[2]
半导体元件及其制造方法 [P]. 
松本良辅 .
中国专利 :CN112771671A ,2021-05-07
[3]
半导体光元件及其制造方法 [P]. 
平谷拓生 .
中国专利 :CN112787214A ,2021-05-11
[4]
半导体元件及其制造方法 [P]. 
橘浩一 ;
斋藤真司 ;
布上真也 .
中国专利 :CN100477421C ,2007-01-17
[5]
半导体元件及其制造方法 [P]. 
高野刚志 ;
城市隆秀 ;
冈川广明 .
中国专利 :CN101156253A ,2008-04-02
[6]
半导体发光元件及其制造方法、半导体元件及其制造方法 [P]. 
平尾直树 .
中国专利 :CN101887937A ,2010-11-17
[7]
半导体光元件及其制造方法 [P]. 
平谷拓生 ;
八木英树 ;
藤原直树 .
中国专利 :CN114545548A ,2022-05-27
[8]
半导体发光元件及其制造方法 [P]. 
折田贤儿 .
中国专利 :CN1538537A ,2004-10-20
[9]
半导体光元件及其制造方法 [P]. 
平谷拓生 ;
藤原直树 ;
菊地健彦 .
中国专利 :CN114859461A ,2022-08-05
[10]
半导体发光元件及其制造方法 [P]. 
户谷真悟 ;
出口将士 .
中国专利 :CN103682026B ,2014-03-26