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半导体元件及其制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201180037298.8
申请日
:
2011-07-26
公开(公告)号
:
CN103038902A
公开(公告)日
:
2013-04-10
发明(设计)人
:
门胁嘉孝
丰田达宪
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
H01L3332
IPC分类号
:
H01S5323
代理机构
:
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人
:
刘新宇;李茂家
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2015-08-19
授权
授权
2013-05-08
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101452521806 IPC(主分类):H01L 33/32 专利申请号:2011800372988 申请日:20110726
2013-04-10
公开
公开
共 50 条
[1]
半导体元件及其制造方法
[P].
松本良辅
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
索尼半导体解决方案公司
索尼半导体解决方案公司
松本良辅
.
日本专利
:CN112771671B
,2024-12-17
[2]
半导体元件及其制造方法
[P].
松本良辅
论文数:
0
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0
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0
松本良辅
.
中国专利
:CN112771671A
,2021-05-07
[3]
半导体光元件及其制造方法
[P].
平谷拓生
论文数:
0
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0
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0
平谷拓生
.
中国专利
:CN112787214A
,2021-05-11
[4]
半导体元件及其制造方法
[P].
橘浩一
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橘浩一
;
斋藤真司
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斋藤真司
;
布上真也
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布上真也
.
中国专利
:CN100477421C
,2007-01-17
[5]
半导体元件及其制造方法
[P].
高野刚志
论文数:
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高野刚志
;
城市隆秀
论文数:
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城市隆秀
;
冈川广明
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冈川广明
.
中国专利
:CN101156253A
,2008-04-02
[6]
半导体发光元件及其制造方法、半导体元件及其制造方法
[P].
平尾直树
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平尾直树
.
中国专利
:CN101887937A
,2010-11-17
[7]
半导体光元件及其制造方法
[P].
平谷拓生
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平谷拓生
;
八木英树
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八木英树
;
藤原直树
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藤原直树
.
中国专利
:CN114545548A
,2022-05-27
[8]
半导体发光元件及其制造方法
[P].
折田贤儿
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折田贤儿
.
中国专利
:CN1538537A
,2004-10-20
[9]
半导体光元件及其制造方法
[P].
平谷拓生
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平谷拓生
;
藤原直树
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藤原直树
;
菊地健彦
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菊地健彦
.
中国专利
:CN114859461A
,2022-08-05
[10]
半导体发光元件及其制造方法
[P].
户谷真悟
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户谷真悟
;
出口将士
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出口将士
.
中国专利
:CN103682026B
,2014-03-26
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