一种碳化硅晶圆单面抛光自动化产线

被引：0

申请号：

CN202210984269.2

申请日：

2022-08-16

公开(公告)号：

CN115415913A

公开(公告)日：

2022-12-02

发明(设计)人：

黄家剑贺贤汉胡烺

申请人：

申请人地址：

200444 上海市宝山区宝山城市工业园区山连路188号

IPC主分类号：

B24B2902

IPC分类号：

B24B2700 B24B4100 B24B4900 H01L21306 H01L2167

代理机构：

上海申浩律师事务所 31280

代理人：

陆叶

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-12-20	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 29/02 申请日:20220816
2022-12-02	公开	公开

共 50 条

[1]

一种8英寸碳化硅晶圆单面抛光方法 [P].

刘欣宇 ;

袁振洲 ;

詹琳 ;

阮俊海 .

中国专利 :CN119635420B ,2025-07-29

[2]

一种8英寸碳化硅晶圆单面抛光方法 [P].

刘欣宇 ;

袁振洲 ;

詹琳 ;

阮俊海 .

中国专利 :CN119635420A ,2025-03-18

[3]

碳化硅晶圆抛光装置 [P].

韩波 ;

韩宗考 ;

孟璇 .

中国专利 :CN120480794A ,2025-08-15

[4]

一种碳化硅晶圆研磨抛光工艺 [P].

陈宇翔 ;

翟会阳 ;

李永波 ;

李纪宏 .

中国专利 :CN117549184A ,2024-02-13

[5]

一种碳化硅晶圆研磨抛光工艺 [P].

严立巍 .

中国专利 :CN115464469A ,2022-12-13

[6]

一种碳化硅晶圆翘曲的修复方法以及碳化硅晶圆 [P].

卢海彬 ;

浩瀚 ;

赵新田 ;

余胜军 ;

张万林 ;

覃振堂 ;

韦严 ;

吴思波 ;

胡玲艳 ;

张能 ;

杨水艳 ;

沈梦涵 .

中国专利 :CN121156831A ,2025-12-19

[7]

一种碳化硅晶圆的研磨抛光设备 [P].

宁富生 .

中国专利 :CN217992125U ,2022-12-09

[8]

一种碳化硅晶圆表面抛光方法 [P].

左晓磊 ;

王磊 ;

张康 ;

刘永进 ;

李婷 .

中国专利 :CN118123697A ,2024-06-04

[9]

一种碳化硅晶圆抛光液 [P].

梁振 .

中国专利 :CN116656243B ,2024-03-29

[10]

多晶碳化硅晶圆研磨抛光装置 [P].

詹军 .

中国专利 :CN223441982U ,2025-10-17

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