一种磁控溅射设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202020347358.2

申请日：

2020-03-18

公开(公告)号：

CN211848118U

公开(公告)日：

2020-11-03

发明(设计)人：

籍龙占张晓岚吴历清谢丑相王国昌

申请人：

申请人地址：

310051 浙江省杭州市杭州滨江江陵路88号万轮科技园9幢北楼803

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

王云晓

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-11-03	授权	授权

共 50 条

[1]

一种磁控溅射设备及磁控溅射方法 [P].

籍龙占 ;

张晓岚 ;

吴历清 ;

谢丑相 ;

王国昌 .

中国专利 :CN111235540A ,2020-06-05

[2]

一种磁控溅射设备及磁控溅射方法 [P].

籍龙占 ;

张晓岚 ;

吴历清 ;

谢丑相 ;

王国昌 .

中国专利 :CN111235540B ,2024-03-29

[3]

一种磁控溅射设备 [P].

毛瑞锋 ;

金相起 ;

杨子衡 .

中国专利 :CN207552438U ,2018-06-29

[4]

一种磁控溅射靶材、磁控溅射靶及磁控溅射设备 [P].

魏钰 ;

宋博韬 ;

成军 ;

刘宁 .

中国专利 :CN205934012U ,2017-02-08

[5]

一种磁控溅射靶与磁控溅射设备 [P].

陈岩 ;

杜晓健 ;

高博 .

中国专利 :CN202786406U ,2013-03-13

[6]

磁控溅射装置和磁控溅射设备 [P].

毛瑞锋 ;

金相起 ;

程贯杰 ;

李阳阳 ;

王宜申 .

中国专利 :CN206706198U ,2017-12-05

[7]

磁控溅射装置及磁控溅射设备 [P].

胡小波 ;

张晓军 ;

李佳小龙 ;

谢明辉 .

中国专利 :CN223561668U ,2025-11-18

[8]

磁控溅射装置及磁控溅射设备 [P].

胡小波 ;

张晓军 .

中国专利 :CN222182418U ,2024-12-17

[9]

一种磁控溅射设备 [P].

李聪 ;

潘振伟 ;

曲佳佳 ;

陈玲 ;

李靖 .

中国专利 :CN212713735U ,2021-03-16

[10]

一种磁控溅射设备 [P].

刘洋 ;

汪振南 ;

雷绍温 ;

杨永雷 ;

见东伟 ;

张伟 ;

邬英 ;

刘福山 ;

韩晓琳 .

中国专利 :CN208762572U ,2019-04-19

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