形成自动对准接触窗方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200310124495.0

申请日：

2003-12-25

公开(公告)号：

CN1632923A

公开(公告)日：

2005-06-29

发明(设计)人：

黄水钦陈建宏

申请人：

申请人地址：

台湾省新竹科学工业园区新竹市力行二路3号

IPC主分类号：

H01L2130

IPC分类号：

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司

代理人：

任永武

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2005-06-29	公开	公开
2005-08-24	实质审查的生效	实质审查的生效
2007-09-05	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回

共 50 条

[1]

自对准接触窗形成方法 [P].

郑培仁 .

中国专利 :CN1303651C ,2005-01-26

[2]

形成接触窗的方法 [P].

简荣吾 ;

颜子师 .

中国专利 :CN1188327A ,1998-07-22

[3]

栅极接触窗的形成方法 [P].

徐鹏富 ;

蔡明桓 ;

彭宝庆 ;

徐祖望 ;

邱远鸿 .

中国专利 :CN1231948C ,2004-07-14

[4]

形成具有自行对准接触窗的记忆元件的方法和所形成装置 [P].

邱宏裕 ;

陈铭祥 ;

吕文彬 ;

曾铕寪 .

中国专利 :CN1630065A ,2005-06-22

[5]

自对准接触孔的形成方法 [P].

郭振强 .

中国专利 :CN108417527B ,2018-08-17

[6]

自对准接触孔的形成方法 [P].

汪彬彬 ;

蒋章 .

中国专利 :CN118016598A ,2024-05-10

[7]

用于制造自行对准接触窗结构的方法 [P].

许允埈 .

中国专利 :CN1327490C ,2005-05-04

[8]

在半导体器件中形成自对准接触的方法 [P].

赵昶贤 ;

郑弘植 ;

李宰求 ;

姜昌珍 ;

郑相燮 ;

郑澈 ;

郑灿旭 .

中国专利 :CN1222753A ,1999-07-14

[9]

利用牺牲掩模层形成自对准接触结构的方法 [P].

尹喆柱 ;

郑泰荣 .

中国专利 :CN1574282A ,2005-02-02

[10]

接触孔形成方法 [P].

罗飞 .

中国专利 :CN102157435B ,2011-08-17

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