半导体结构及其形成方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202011410902.4
申请日
2020-12-04
公开(公告)号
CN113257740A
公开(公告)日
2021-08-13
发明(设计)人
彭裕钧 曹修豪 陈书涵 许昶志 游国丰 陈建豪 尤志豪 张长昀
申请人
申请人地址
中国台湾新竹
IPC主分类号
H01L218238
IPC分类号
H01L27092
代理机构
北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409
代理人
章社杲;李伟
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
管斌 ;
张东亮 ;
陈世杰 ;
黄晓橹 .
中国专利 :CN110034064A ,2019-07-19
[2]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
王潇 ;
田志娟 ;
孔云龙 .
中国专利 :CN111613534A ,2020-09-01
[3]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
三重野文健 .
中国专利 :CN104617093B ,2015-05-13
[4]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
何永根 .
中国专利 :CN105655253B ,2016-06-08
[5]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
何永根 .
中国专利 :CN105655398A ,2016-06-08
[6]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
王敬 ;
郭磊 ;
王巍 .
中国专利 :CN102683345A ,2012-09-19
[7]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
雒曲 ;
谢文浩 .
中国专利 :CN113690185A ,2021-11-23
[8]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
彭裕钧 ;
曹修豪 ;
陈书涵 ;
许昶志 ;
游国丰 ;
陈建豪 ;
尤志豪 ;
张长昀 .
中国专利 :CN113257740B ,2025-09-26
[9]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
王巍 ;
王敬 ;
郭磊 .
中国专利 :CN102683385B ,2012-09-19
[10]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
章恒嘉 .
中国专利 :CN114334866A ,2022-04-12