浅沟槽隔离区的制造方法

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专利类型
发明
申请号
CN03100237.4
申请日
2003-01-06
公开(公告)号
CN1259706C
公开(公告)日
2004-07-28
发明(设计)人
马思尊 张国华
申请人
申请人地址
台湾省新竹科学工业园区力行路16号
IPC主分类号
H01L2166
IPC分类号
H01L2176
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人
王学强
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
浅沟槽隔离区、浅沟槽隔离区掩膜版及浅沟槽隔离区制造方法 [P]. 
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[2]
浅沟槽隔离结构的制造方法 [P]. 
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庄东汉 .
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[3]
形成浅沟槽隔离区的方法 [P]. 
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杨玲 ;
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[4]
保护浅沟槽隔离区的方法 [P]. 
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[5]
形成浅沟槽隔离区的方法 [P]. 
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[6]
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[7]
形成浅沟槽隔离区的方法 [P]. 
张飞 ;
杨玲 ;
夏雁宾 .
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[8]
浅沟槽隔离的制造方法 [P]. 
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[9]
浅沟槽隔离的制造方法 [P]. 
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[10]
浅沟槽隔离的制造方法 [P]. 
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