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半导体晶片处理装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201680087217.8
申请日
:
2016-05-27
公开(公告)号
:
CN109415807A
公开(公告)日
:
2019-03-01
发明(设计)人
:
J·舒格鲁
卢西恩·C·希迪拉
克里斯·G·M·德里德
申请人
:
申请人地址
:
荷兰阿尔默勒
IPC主分类号
:
C23C16455
IPC分类号
:
代理机构
:
北京派特恩知识产权代理有限公司 11270
代理人
:
孟媛;姚开丽
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2019-03-26
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/455 申请日:20160527
2019-03-01
公开
公开
2021-11-23
授权
授权
共 50 条
[41]
半导体晶片
[P].
陈辰
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陈辰
;
宋杰
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宋杰
;
崔周源
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崔周源
.
中国专利
:CN208970547U
,2019-06-11
[42]
半导体晶片
[P].
宫下昭
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宫下昭
;
讃岐幸悦
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讃岐幸悦
;
佐藤正和
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佐藤正和
.
中国专利
:CN1545723A
,2004-11-10
[43]
半导体晶片
[P].
孙倩
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孙倩
;
陈伟钿
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陈伟钿
;
张永杰
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张永杰
;
周永昌
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周永昌
;
李浩南
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李浩南
.
中国专利
:CN212084974U
,2020-12-04
[44]
半导体晶片
[P].
吉田雅昭
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吉田雅昭
;
神埜聪
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神埜聪
.
中国专利
:CN101714562A
,2010-05-26
[45]
半导体晶片
[P].
林宗辉
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林宗辉
;
刘洪民
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刘洪民
;
饶瑞孟
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饶瑞孟
;
张文通
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张文通
;
陈国明
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陈国明
;
何凯光
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何凯光
.
中国专利
:CN100407403C
,2007-01-03
[46]
半导体晶片
[P].
克里斯·哈迪曼
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克里斯·哈迪曼
;
荣-槿·李
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荣-槿·李
;
法比亚·拉杜勒斯库
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法比亚·拉杜勒斯库
;
丹尼尔·纳米希亚
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丹尼尔·纳米希亚
;
斯科特·托马斯·谢泼德
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斯科特·托马斯·谢泼德
.
中国专利
:CN115000030A
,2022-09-02
[47]
半导体晶片
[P].
傅宗民
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傅宗民
;
林晃生
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林晃生
;
韩郁琪
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韩郁琪
;
陈宪伟
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陈宪伟
.
中国专利
:CN1783494A
,2006-06-07
[48]
处理半导体晶片的激光束处理设备、方法及半导体晶片
[P].
木田刚
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木田刚
.
中国专利
:CN1744284A
,2006-03-08
[49]
半导体晶片、半导体芯片及处理晶片的方法和设备
[P].
具泰亨
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具泰亨
;
崔三宗
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崔三宗
;
金泰成
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金泰成
;
曹圭彻
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曹圭彻
;
崔埈荣
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崔埈荣
;
金熹声
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金熹声
;
金娟淑
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金娟淑
.
中国专利
:CN101752246A
,2010-06-23
[50]
晶片处理装置及在单一装置中处理半导体晶片的方法
[P].
余振华
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余振华
;
邱文智
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邱文智
;
吴文进
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吴文进
;
杨固峰
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杨固峰
;
胡荣治
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胡荣治
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中国专利
:CN101667526A
,2010-03-10
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