一种用于硅片表面光刻胶保护的储存柜

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202023119940.2

申请日：

2020-12-22

公开(公告)号：

CN214398106U

公开(公告)日：

2021-10-15

发明(设计)人：

何学涛顾大公岳力挽阴奔野郑广磊马潇毛智彪许从应

申请人：

申请人地址：

315800 浙江省宁波市北仑区柴桥街道青山路21号

IPC主分类号：

B65D8120

IPC分类号：

B65D8118

代理机构：

深圳盛德大业知识产权代理事务所(普通合伙) 44333

代理人：

贾振勇

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-10-15	授权	授权

共 50 条

[1]

一种去除硅片表面光刻胶后的废液处理装置 [P].

陆雨 .

中国专利 :CN222015350U ,2024-11-15

[2]

一种去除晶圆表面光刻胶的方法 [P].

曹娟 ;

黄寓洋 .

中国专利 :CN115047733A ,2022-09-13

[3]

一种去除金属薄膜表面光刻胶的方法 [P].

王依依 ;

许杨 .

中国专利 :CN119181637A ,2024-12-24

[4]

ONO层表面光刻胶返工的改善方法 [P].

王佳兴 ;

刘政红 ;

陈昊瑜 ;

黄冠群 ;

齐瑞生 .

中国专利 :CN115050748A ,2022-09-13

[5]

具有高台阶结构的硅片表面光刻方法 [P].

蒋丽 ;

杨涛 .

中国专利 :CN108107683B ,2018-06-01

[6]

一种用于光刻胶成膜的光刻胶加热控制系统 [P].

陈福成 ;

黄玮 ;

王雷 .

中国专利 :CN101178542A ,2008-05-14

[7]

一种半导体圆晶表面光刻胶涂布装置 [P].

李国平 .

中国专利 :CN118950393A ,2024-11-15

[8]

一种半导体圆晶表面光刻胶涂布装置 [P].

罗启祥 ;

高梁 .

中国专利 :CN120605843A ,2025-09-09

[9]

一种半导体圆晶表面光刻胶涂布装置 [P].

李国平 .

中国专利 :CN118950393B ,2024-12-31

[10]

一种用于去除硅片光刻胶的方法 [P].

李德鹏 ;

程文娟 ;

徐海涛 ;

李中亮 ;

张光展 ;

王民 .

中国专利 :CN118331003A ,2024-07-12

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