使用肼基前体沉积氮化硼膜

被引：0

申请号：

CN202210954423.1

申请日：

2022-08-10

公开(公告)号：

CN115704091A

公开(公告)日：

2023-02-17

发明(设计)人：

C.德泽拉 T.布兰夸特

申请人：

申请人地址：

荷兰阿尔梅勒

IPC主分类号：

C23C1634

IPC分类号：

C23C16455 C07F502 C01B3514

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

焦玉恒

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2023-02-17	公开	公开

共 50 条

[1]

沉积敷形氮化硼膜 [P].

乔治·安德鲁·安东内利 ;

曼迪亚姆·西里拉姆 ;

维什瓦纳坦·兰加拉詹 ;

普拉莫德·苏布拉莫尼姆 .

中国专利 :CN103119196B ,2013-05-22

[2]

用于氮化硼膜的ALD沉积的含硼前体 [P].

R·N·维蒂斯 ;

金武性 ;

H·钱德拉 ;

雷新建 .

美国专利 :CN119213168A ,2024-12-27

[3]

氮化硼和氮化硼导出材料的沉积方法 [P].

J-u·许 ;

M·巴尔塞努 ;

夏立群 ;

V·T·恩古耶 ;

D·R·威蒂 ;

H·M'塞德 .

中国专利 :CN101690420B ,2010-03-31

[4]

六方氮化硼沉积 [P].

沈泽清 ;

S·S·罗伊 ;

A·B·玛里克 .

美国专利 :CN118077030A ,2024-05-24

[5]

六方氮化硼粉体及三维氮化硼的制备方法 [P].

魏大程 ;

夏冬云 ;

李孟林 ;

李科 ;

亓国强 ;

曹敏 ;

张彩云 ;

蔡智 ;

彭兰 ;

刘冬华 .

中国专利 :CN104803362B ,2015-07-29

[6]

用于沉积氮化硼的方法和系统 [P].

M·S·德阿布鲁内托 ;

J·全 ;

I·阿卜德拉奥伊 ;

T·布兰夸特 ;

R·H·J·沃乌尔特 .

:CN118186364A ,2024-06-14

[7]

立方晶氮化硼基烧结体及立方晶氮化硼基烧结体制切削工具 [P].

矢野雅大 ;

宫下庸介 .

中国专利 :CN107001155A ,2017-08-01

[8]

多晶立方氮化硼体 [P].

A·坎恩 ;

H·S·泰勒 ;

D·吉克 .

中国专利 :CN111315710A ,2020-06-19

[9]

多晶立方氮化硼体 [P].

A·坎恩 ;

H·S·泰勒 ;

D·吉克 .

英国专利 :CN111315710B ,2025-10-31

[10]

立方氮化硼、制造立方氮化硼的方法、含有立方氮化硼的砂轮、和烧结立方氮化硼压制体 [P].

井原荣治 ;

柳泽泰州 .

中国专利 :CN101362591B ,2009-02-11

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