基于非平衡磁场的双通道连续磁控溅射镀膜设备

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201110087336.2
申请日
2011-04-08
公开(公告)号
CN102168253A
公开(公告)日
2011-08-31
发明(设计)人
周钧
申请人
申请人地址
355200 福建省漳州市漳州开发区太武路10号招商依山海19幢1103室
IPC主分类号
C23C1435
IPC分类号
代理机构
上海宏威知识产权代理有限公司 31250
代理人
郭春远
法律状态
专利申请权、专利权的转移
国省代码
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共 50 条
[21]
磁控溅射镀膜设备 [P]. 
张心凤 ;
郑杰 ;
尹辉 .
中国专利 :CN204727943U ,2015-10-28
[22]
磁控溅射镀膜设备 [P]. 
刘玉华 ;
方凤军 .
中国专利 :CN204455280U ,2015-07-08
[23]
磁控溅射镀膜设备 [P]. 
臧世伟 ;
请求不公布姓名 .
中国专利 :CN118621283A ,2024-09-10
[24]
磁控溅射镀膜设备 [P]. 
史甲 .
中国专利 :CN223496591U ,2025-10-31
[25]
磁控溅射镀膜设备 [P]. 
徐锐 .
中国专利 :CN118957520A ,2024-11-15
[26]
用于磁控溅射镀膜设备的放气装置及磁控溅射镀膜设备 [P]. 
陈军 ;
李弋舟 ;
陈曦 .
中国专利 :CN212199402U ,2020-12-22
[27]
用于磁控溅射镀膜设备的梯凳及磁控溅射镀膜设备 [P]. 
臧世伟 .
中国专利 :CN221645038U ,2024-09-03
[28]
内腔式连续磁控溅射镀膜设备 [P]. 
韩成明 ;
薛道荣 ;
李峰 ;
褚敬堂 ;
刘子毓 .
中国专利 :CN211142150U ,2020-07-31
[29]
磁控溅射镀膜设备用旋转装置及磁控溅射镀膜设备 [P]. 
田杰成 ;
李俊 .
中国专利 :CN215517615U ,2022-01-14
[30]
磁控溅射圆柱靶及磁控溅射镀膜设备 [P]. 
罗金豪 ;
解传佳 ;
潘俊杰 ;
赵贤贵 .
中国专利 :CN222119368U ,2024-12-06