基于非平衡磁场的双通道连续磁控溅射镀膜设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110087336.2

申请日：

2011-04-08

公开(公告)号：

CN102168253A

公开(公告)日：

2011-08-31

发明(设计)人：

周钧

申请人：

申请人地址：

355200 福建省漳州市漳州开发区太武路10号招商依山海19幢1103室

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

代理机构：

上海宏威知识产权代理有限公司 31250

代理人：

郭春远

法律状态：

专利申请权、专利权的转移

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-07-31	专利申请权、专利权的转移	专利申请权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101643245544 IPC(主分类):C23C 14/35 专利申请号:2011100873362 变更事项:申请人变更前权利人:周钧变更后权利人:江苏汇景薄膜科技有限公司变更事项:地址变更前权利人:355200 福建省漳州市漳州开发区太武路10号招商依山海19幢1103室变更后权利人:225300 江苏省泰州市海陵区九龙镇东兴南路18号1号楼315室登记生效日:20130710
2012-01-04	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101163709757 IPC(主分类):C23C 14/35 专利申请号:2011100873362 申请日:20110408
2011-08-31	公开	公开
2014-05-07	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101700598029 IPC(主分类):C23C 14/35 专利申请号:2011100873362 申请公布日:20110831

共 50 条

[1]

闭合磁场非平衡磁控溅射镀膜设备 [P].

金广福 .

中国专利 :CN102653857A ,2012-09-05

[2]

一种闭合磁场非平衡磁控溅射镀膜设备 [P].

金广福 .

中国专利 :CN202643826U ,2013-01-02

[3]

基于移动磁场的磁控溅射镀膜方法及设备 [P].

何凯 ;

李若朋 ;

汪民 ;

许玉方 .

中国专利 :CN118703956A ,2024-09-27

[4]

磁控溅射镀膜设备和磁控溅射镀膜方法 [P].

杨伟顺 ;

蒙峻 ;

蔺晓建 ;

马向利 ;

张晓鹰 .

中国专利 :CN107794496A ,2018-03-13

[5]

卧式光学连续磁控溅射镀膜设备 [P].

肖山 .

中国专利 :CN112899635A ,2021-06-04

[6]

磁控溅射镀膜设备 [P].

王伟 ;

张勇军 ;

魏佳 ;

卢成 ;

陈科 .

中国专利 :CN117721429B ,2024-04-23

[7]

磁控溅射镀膜设备 [P].

刘玉华 ;

方凤军 .

中国专利 :CN204455279U ,2015-07-08

[8]

磁控溅射镀膜设备 [P].

睢智峰 ;

周云 ;

曹辉 ;

解文骏 ;

龙风琴 ;

宋维聪 .

中国专利 :CN119194388A ,2024-12-27

[9]

磁控溅射镀膜设备 [P].

程厚义 ;

丁庆 ;

杜寅昌 ;

李玉婷 .

中国专利 :CN309358958S ,2025-06-27

[10]

磁控溅射镀膜设备 [P].

蒋文彬 ;

李宁 ;

孙忠 ;

黄智 ;

林锦华 ;

梁师国 ;

英文 ;

李保良 .

中国专利 :CN204474751U ,2015-07-15

← 1 2 3 4 5 →