半导体硅片制造工艺

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN200910241461.7
申请日
2009-12-03
公开(公告)号
CN101791779A
公开(公告)日
2010-08-04
发明(设计)人
库黎明 闫志瑞 索思卓 陈海滨 盛方毓
申请人
申请人地址
100088 北京市新街口外大街2号
IPC主分类号
B24B2902
IPC分类号
代理机构
北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100
代理人
郭佩兰
法律状态
发明专利申请公布后的驳回
国省代码
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共 50 条
[1]
一种半导体硅片的减薄制造工艺 [P]. 
王新 .
中国专利 :CN101101873A ,2008-01-09
[2]
半导体硅片的清洗工艺腔及半导体硅片的清洗工艺 [P]. 
张晨骋 .
中国专利 :CN102243988B ,2011-11-16
[3]
半导体硅片清洗工艺腔 [P]. 
张晨骋 ;
张伟 .
中国专利 :CN201898117U ,2011-07-13
[4]
一种半导体硅片脱胶工艺 [P]. 
王少刚 ;
邢玉军 ;
范猛 ;
王帅 ;
张全红 ;
李立伟 .
中国专利 :CN103464418B ,2013-12-25
[5]
半导体制造工艺和半导体器件制造工艺 [P]. 
高山彻 ;
张宏勇 ;
山崎舜平 ;
竹村保彦 .
中国专利 :CN1316769A ,2001-10-10
[6]
半导体制造工艺和半导体器件制造工艺 [P]. 
高山彻 ;
张宏勇 ;
山崎舜平 ;
竹村保彦 .
中国专利 :CN1255742A ,2000-06-07
[7]
半导体制造工艺和半导体器件制造工艺 [P]. 
高山彻 ;
张宏勇 ;
山崎舜平 ;
竹村保彦 .
中国专利 :CN1095859A ,1994-11-30
[8]
半导体制造工艺和半导体器件制造工艺 [P]. 
高山彻 ;
张宏勇 ;
山崎舜平 ;
竹村保彦 .
中国专利 :CN100416750C ,2001-10-10
[9]
半导体制造工艺和半导体器件制造工艺 [P]. 
高山彻 ;
张宏勇 ;
山崎舜平 ;
竹村保彦 .
中国专利 :CN1255732A ,2000-06-07
[10]
半导体设备和半导体硅片处理工艺 [P]. 
侯欣楠 ;
程进 ;
石金川 .
中国专利 :CN113223981A ,2021-08-06