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半导体器件以及半导体器件的制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202010431545.3
申请日
:
2020-05-20
公开(公告)号
:
CN112103288A
公开(公告)日
:
2020-12-18
发明(设计)人
:
清水二二男
可知刚
吉田芳规
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
H01L2706
IPC分类号
:
H01L2702
H01L2182
代理机构
:
北京市金杜律师事务所 11256
代理人
:
李辉
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-01-14
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 27/06 申请日:20200520
2020-12-18
公开
公开
共 50 条
[1]
半导体器件以及半导体器件的制造方法
[P].
藤田和司
论文数:
0
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0
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藤田和司
;
江间泰示
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江间泰示
;
小川裕之
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小川裕之
.
中国专利
:CN102655150A
,2012-09-05
[2]
半导体器件、制造半导体器件的方法、以及半导体模块
[P].
柳川洋
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机构:
瑞萨电子株式会社
瑞萨电子株式会社
柳川洋
;
中柴康隆
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机构:
瑞萨电子株式会社
瑞萨电子株式会社
中柴康隆
;
森和久
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机构:
瑞萨电子株式会社
瑞萨电子株式会社
森和久
;
长谷川浩一
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机构:
瑞萨电子株式会社
瑞萨电子株式会社
长谷川浩一
.
日本专利
:CN118352236A
,2024-07-16
[3]
半导体器件以及形成半导体器件的方法
[P].
朱慧珑
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0
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朱慧珑
;
林红
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林红
.
中国专利
:CN101097955A
,2008-01-02
[4]
半导体器件以及用于制造半导体器件的方法
[P].
岛昌司
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岛昌司
.
中国专利
:CN103208494A
,2013-07-17
[5]
半导体器件以及用于制造半导体器件的方法
[P].
R.鲁道夫
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R.鲁道夫
;
T.施勒泽
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T.施勒泽
;
R.魏斯
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R.魏斯
.
中国专利
:CN103579233A
,2014-02-12
[6]
半导体器件、半导体器件的制造方法以及芯片
[P].
张露
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机构:
华为技术有限公司
华为技术有限公司
张露
;
黄元琪
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机构:
华为技术有限公司
华为技术有限公司
黄元琪
;
温雅楠
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机构:
华为技术有限公司
华为技术有限公司
温雅楠
;
吴俊慷
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机构:
华为技术有限公司
华为技术有限公司
吴俊慷
;
丁泊宁
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华为技术有限公司
华为技术有限公司
丁泊宁
;
赵智彪
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机构:
华为技术有限公司
华为技术有限公司
赵智彪
;
许俊豪
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机构:
华为技术有限公司
华为技术有限公司
许俊豪
.
中国专利
:CN117747618A
,2024-03-22
[7]
半导体器件的制造方法以及半导体器件
[P].
木城耕一
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木城耕一
.
中国专利
:CN1862790A
,2006-11-15
[8]
半导体器件以及半导体器件的制造方法
[P].
杜子明
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机构:
英诺赛科(珠海)科技有限公司
英诺赛科(珠海)科技有限公司
杜子明
;
杜卫星
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机构:
英诺赛科(珠海)科技有限公司
英诺赛科(珠海)科技有限公司
杜卫星
;
游政昇
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机构:
英诺赛科(珠海)科技有限公司
英诺赛科(珠海)科技有限公司
游政昇
.
中国专利
:CN117393596A
,2024-01-12
[9]
半导体器件以及制造半导体器件的方法
[P].
S·J·克斯特
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S·J·克斯特
;
A·马宗达
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A·马宗达
;
蔡劲
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蔡劲
.
中国专利
:CN101908561B
,2010-12-08
[10]
半导体器件以及制造半导体器件的方法
[P].
安内特·文策尔
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机构:
英飞凌科技奥地利有限公司
英飞凌科技奥地利有限公司
安内特·文策尔
;
拉尔斯·穆勒-梅什坎普
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机构:
英飞凌科技奥地利有限公司
英飞凌科技奥地利有限公司
拉尔斯·穆勒-梅什坎普
;
汤姆·彼得亨泽尔
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机构:
英飞凌科技奥地利有限公司
英飞凌科技奥地利有限公司
汤姆·彼得亨泽尔
;
法比安·盖森霍夫
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机构:
英飞凌科技奥地利有限公司
英飞凌科技奥地利有限公司
法比安·盖森霍夫
;
托尔斯滕·赫尔姆
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机构:
英飞凌科技奥地利有限公司
英飞凌科技奥地利有限公司
托尔斯滕·赫尔姆
;
迪尔克·曼格尔
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机构:
英飞凌科技奥地利有限公司
英飞凌科技奥地利有限公司
迪尔克·曼格尔
.
:CN118866961A
,2024-10-29
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