等离子体刻蚀方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110141821.3

申请日：

2011-05-27

公开(公告)号：

CN102208333A

公开(公告)日：

2011-10-05

发明(设计)人：

王兆祥

申请人：

申请人地址：

201201 上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号

IPC主分类号：

H01L2102

IPC分类号：

H01L21311

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

骆苏华

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-11-23	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101140144740 IPC(主分类):H01L 21/02 专利申请号:2011101418213 申请日:20110527
2014-04-02	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101699619444 IPC(主分类):H01L 21/02 专利申请号:2011101418213 申请公布日:20111005
2011-10-05	公开	公开

共 50 条

[1]

等离子体刻蚀方法 [P].

王兆祥 ;

梁洁 ;

杨平 ;

李晶 .

中国专利 :CN103898613A ,2014-07-02

[2]

等离子体刻蚀方法 [P].

王兆祥 ;

孙超 .

中国专利 :CN104347389A ,2015-02-11

[3]

等离子体刻蚀装置及等离子体刻蚀方法 [P].

刘东升 ;

吕煜坤 ;

朱骏 ;

张旭升 .

中国专利 :CN105161395A ,2015-12-16

[4]

等离子体刻蚀装置及其等离子体刻蚀方法 [P].

周亚勇 ;

罗林 ;

刘家桦 .

中国专利 :CN109256316A ,2019-01-22

[5]

等离子体刻蚀装置和等离子体刻蚀方法 [P].

黄啟伟 ;

柳波 ;

高君 ;

张家赫 ;

刘彦伟 .

中国专利 :CN121096838A ,2025-12-09

[6]

等离子体刻蚀装置 [P].

王铮 .

中国专利 :CN1851852A ,2006-10-25

[7]

等离子体刻蚀装置 [P].

王冬江 ;

符雅丽 ;

张海洋 .

中国专利 :CN103515178A ,2014-01-15

[8]

等离子体刻蚀方法 [P].

李俊良 ;

杨俊 .

中国专利 :CN104681406A ,2015-06-03

[9]

等离子体刻蚀方法 [P].

高山星一 ;

倪图强 .

中国专利 :CN101465287B ,2009-06-24

[10]

等离子体刻蚀方法及等离子体刻蚀后处理方法 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN108493104A ,2018-09-04

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